创微微电拿下半导体SiC整线湿法设备订单

近日，捷佳伟创子公司创微微电子成功中标半导体SiC整线湿法设备订单并完成合同签署。此举标志着创微微电子已全面覆盖SiC器件刻蚀清洗工艺，并具备替代进口设备的能力。

创微微电子的6/8英寸全自动湿法刻蚀清洗设备在颗粒去除、金属污染控制、刻蚀均匀性等方面表现出色，性能指标与国际大厂相当。同时，该设备国产化零部件占比高，成本具有优势，且已获多家一线FAB厂量产验证。此外，该设备还具备自主开发软件，可根据客户需求定制设备排程，实现产能最大化。

创微微电子专注于集成电路湿法清洗工艺设备的研发、生产和销售，产品涵盖4到12英寸批式及单晶圆刻蚀清洗湿法工艺设备，已成功导入多家国内头部芯片企业并获得重复性订单。去年底，其单晶圆刻蚀清洗设备还成功通过苏锡常首台（套）重大装备认定，实现首台套零突破。