中微公司ICP刻蚀设备传来喜讯

3月21日，中微公司宣布其电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova®系列第500台反应腔已成功付运给国内一家领先的半导体芯片制造商。此次付运的设备全部来自客户的重复订单，显示出中微公司产品在市场上的高度认可。

Primo nanova®作为中微公司针对先进工艺节点研发的12英寸刻蚀设备，广泛应用于逻辑芯片、DRAM存储芯片及3D NAND存储芯片的刻蚀。中微公司的等离子体刻蚀和化学薄膜设备在微观器件制造领域占据重要地位，已广泛应用于国际一线客户的先进工艺中。

中微公司的业绩也颇为亮眼，2023年营业收入同比增长32.15%，其中刻蚀设备收入更是大增49.43%。新增订单总金额也实现32.3%的增长，刻蚀设备新增订单更是飙升60.1%。中微公司正以其卓越的技术和产品，不断推动半导体行业的进步。