镓和公司首发4英寸(100)面单晶衬底产品

近日，北京镓和半导体有限公司（以下简称“镓和半导体”）在“第四届海峡两岸氧化镓及其相关材料与器件研讨会”上发布了一系列氧化镓单晶衬底产品，并展示了其多规格氧化镓单晶衬底、外延产品和专用设备等样品实物。

镓和半导体是国内率先具备提供多规格氧化镓单晶产品、多规格氧化镓外延产品、多用途氧化镓专用设备以及定制化样品及技术服务能力的企业。此次研讨会上的展示，标志着该公司已经形成了完整的氧化镓产业链体系。

氧化镓作为一种新一代的半导体材料，具有禁带宽度大、临界击穿场强高、导电特性良好等优点。与碳化硅和氮化镓相比，氧化镓的生产过程使用常压下的液态熔体法，降低了生产成本，同时具备高质量和高产量的优势。

在性能参数方面，氧化镓几乎在所有方面都超越了目前市场上热门的碳化硅，尤其在禁带宽度和击穿场强方面表现突出，使其在大功率和高频率应用中具有显著优势。因此，氧化镓在通信、雷达、航空航天、高铁动车、新能源汽车等领域有着巨大的应用潜力。

根据预测，到2025年，氧化镓功率器件市场规模将开始超过氮化镓，2030年将达到15.42亿美元（约100亿元人民币），占碳化硅的40%，是氮化镓的1.56倍。目前，氧化镓市场基本由日本的Novel Crystal Technology（NCT）和Flosfia两大巨头垄断。虽然中国起步比较晚，但是通过近几年的积极布局，国内的氧化镓产业链逐渐走向成熟。

此次研讨会上，镓和半导体展台上陈列出了氧化镓系列的2英寸（100）（001）（-201）三种晶面单晶衬底、UID和掺Sn以及4英寸100面单晶衬底等样品实物，这些产品初步形成体系化格局。

此外，镓和半导体总经理助理吴岳先生表示，公司已经在国内首次发布4英寸（100）面氧化镓单晶衬底参数，并实现小批量生产。这一重大进展标志着国内氧化镓产业迈出了里程碑式的一步。

总之，随着国内对氧化镓材料的关注度和投入不断增加，以及相关产业链的逐渐完善，国内氧化镓产业有望在未来几年取得更大的突破和发展。