因软件授权纠纷，大立光研发部三人被调查

来源:芯智讯发布时间:2023-08-14744浏览

8月13日消息，由于镜头模组大立光与相关厂商存在软件授权纠纷，台中地检署在接获检举后，于8月11日对大立光进行了检调搜索，并带回了大立光研发部黄姓总处长等三人询问。检方在问询后认为，三人以侵害电脑程序著作权之重制物作为营业使用罪嫌重大，依照违反著作权法，分别告知黄姓总处长缴纳新台币100万元、陈姓副处长缴纳新台60万元、黄姓课长缴纳新台币20万元保释金方可保释，并全部限制出境。

当日晚间，大立光发布公告称，此次事件“主要因软件授权有争议，公司将全力配合检调单位调查，对公司财务业务无重大影响”。

值得一提的是，今年5月，大立光起诉前员工及先进光电侵犯大立光商业机密一案的二审宣判。

据了解，该案件发生于2013年，原任职于大立光的工程师邹姓、谢姓、翁姓、朱姓等四名工程师，在跳槽先进光电之后，却将属于大立光属营业秘密的“点胶针头结构”、“遮光片送料机构”携带至先进光电做研发参考、抄袭之用，还以重制仿冒图形申请专利，以上行为还得到了时任先进光电罗姓副总经理的默许。随后该事件被大立光发现并报警。案件缠讼多年，民事部分中国台湾知识产权法院重判先进光电赔偿新台币15.22亿元，在2021年3月5日宣布和解；刑事部分，一审时，台湾知识产权法院以擅自重制方法侵害他人著作财产权罪，判处四名工程师6个月有期徒刑。全案上诉二审后，台湾知识产权法院于5月31日改判4名员工与罗姓前副总各6个月有期徒刑，缓刑2年，并各须向公库支付新台币18万元，先进光电则被处罚金新台币60万元。

编辑：芯智讯-林子

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