日本招揽半导体厂 重新补贴工业用水工程 台积电有望受惠

台积电在日本熊本县的新厂，每天工业用水需求量估计是1.2万吨。李建梁摄（数据照）

日本经产省为了协助日本地方政府招揽半导体厂在境内生产，将在2024年重新启动对地方政府的工业用水工程补贴。

日本NHK、日经新闻（Nikkei）等报导，日本多个县正在兴建半导体工厂，这些地方都需要新设工业用水设施，以因应晶圆厂的用水需求，增加各地招揽半导体厂的优势。

日本政府为此正在修改中央对地方政府的工业用水整备工程补贴办法，预计2024年重启补贴。

由于日本的工厂不断外移，原本日本政府对于地方的这项工程补贴在2016年停止，只留下既有设备防震补强等的补贴。

现在由于多个地方都在招揽半导体厂，工业用水设施的整备需求随之提升，因此日本政府将重启补助，使地方政府的工业水用设施整备费用，可由中央政府负担一部分。

日本经产省将补贴的范围，包括工业用水有关的净水厂、输水管道等基础设施的建设工程。各地工业用水的经费大多用在老化输水管线的修补，无力再负担新工程，必须有中央补助的介入。

在日本九州的熊本县，台积电即将于2024年底，启用月产5.5万片晶圆的12寸晶圆厂，预计每天将使用1.2万吨的水，大部分将来自于阿苏地区的地下水。

另外，台积电有可能在熊本兴建第二座晶圆厂，需要新的工业用水来源，因此熊本县政府正在调查菊池川流域上游的龙门水坝。

这座水坝每天可供应工业用水3.4万吨，其中有2万吨尚未使用，熊本县政府试图兴建工程，把这些尚未利用的水源，作为台积电等厂的工业用水。这将是争取台积电在熊本兴建第二座晶圆厂的有力条件。为此，熊本县政府已向日本经产省申请补助金。

其他地方也有半导体的工业用水需求，例如2023年Rapidus宣布把生产据点设立在北海道，因此当地的工业用水需求将会大增。美光（Micron）在广岛县的DRAM厂也将在数年内新投资5,000亿日圆（约36亿美元）。铠侠（Kioxia）则在日本三重县、岩手县兴建NAND Flash新厂房。

日本自民党干事长茂木敏充在2023年7月于北海道演讲时表示，对于日本当地的半导体工厂，有必要追加投资，并整备基础设施，包括上下水道、交通等，例如北海道的Rapidus新厂，及台积电在熊本县兴建中的晶圆厂。

责任编辑：游允彤