三心二意的投名状？贸易数据折射日本半导体设备出口新规成色

集微网消息，7月23日，日本经济产业省针对6大类23种半导体制造设备出口的《外汇及外国贸易法》修改令正式生效实施。根据修改后规定，除少数瓦森纳协议成员国外，向包括中国在内的其他国家与地区出口相关设备，均需获得官方审批许可。

这一事先已张扬多时的新规，势必为本已阴云密布的全球半导体产业生态带来更大的不确定性，也被中国公众广泛视为日本助纣为虐，为围堵中国半导体产业发展交出的一份“投名状”。

值得注意的是，早在今年3月31日经产省发布草案公开征求意见的当天，即有晶圆大厂友人第一时间请笔者协助翻译草案中相关参数要求，足以显示国内产业界目前对海外监管风险应对的敏锐与高效。

在过去的三个多月里，国内产业界潜行急进的应对工作呈现出怎样特点？逐月公开的海关进出口详细数据，无疑为外界提供了宝贵的量化参考，而对数据的解析，也可折射出日本半导体设备出口新规的成色与“真意”。

一枝独秀光刻机

海关进出口数据显示，2023年1到6月，中国大陆自日本进口半导体设备（含单晶柱或晶圆处理设备、半导体器件或集成电路用设备及制造平板显示器用装置）总值为48.3亿美元，较2022年同期的55.7亿美元数据有所下滑。

单独比较新规亮相后的二季度数据，2023年4-6月进口总值为22.8亿美元，较去年二季度25.4亿美元仍有一定萎缩，单月进口额也均未超越今年3月份创出的年内高点，从大盘数据看并未出现人们预想中的“抢购”、“囤货”态势。

而从品类细分看，在经产省新规中，将3种清洗设备、11种薄膜设备、1种热处理设备、4种光刻设备、3种蚀刻设备和1种检测设备列入出口管制范围，似乎成膜设备是日方出口管制的重中之重。

然而集微网所收集的分品类月度数据却呈现出与直觉不同的态势，整个二季度，大部分设备品类自日本进口不涨反跌、CVD/PVD、热处理设备环比跌幅甚至相当明显。这样的采购行为似乎体现出，中国客户对相关设备未来供货的不确定性并未过分担忧。

与此相呼应，主要日本半导体设备供应商如国际电气（Kokusai Electric）、东京电子和爱德万测试近期均对外表示，其产品对华出口预计受影响有限。

相比之下，光刻机则是诸多设备中二季度对华出口少有的明显异动品类。

集微网数据显示，“分步重复光刻机”与“其他光刻设备”两类海关类目的日本对华出口，均在今年二季度出现大幅增长，并于今年6月份双双创出年内“天量”，“分步重复光刻机”当月进口26台，货值6245万美元，“其他光刻设备”当月进口54台，货值达到1.46亿美元，在日本半导体制造设备对华出口大盘中所占比例也明显上升，从今年1月合计货值占比13.1%，增长至6月份合计占比33.1%。

进出口数据清晰显示，光刻机正是国内半导体设备贸易商与最终用户最看重、最急迫下单的品类，日方出口管制新规三个多月的“造势”，并未明显刺激其他品类半导体设备的需求释放。

可供参照的是，在美、日、荷三大半导体设备出口国中，荷兰1-6月半导体设备对华出口额达20.9亿美元，较去年同期15.8亿美元的水平增长逾30%，而美国1-6月半导体设备对华出口额仅约17.3亿美元，较去年同期的31.1亿美元近乎腰斩，其间的反差当然有美国商务部半导体设备管制新规影响，但也足以折射出当前光刻机在我国供应链“囤货”中的高优先级。

同床异梦的“盟友”

日本半导体设备出口新规，无疑是美国围堵中国半导体产业发展的又一重大“成果”，在日方出台新规的前前后后，都活跃着美国朝野煽风点火的身影，甚至近期美方还释放所谓要进一步收紧出口管制规定的风声，将之解释为与日本新规看齐，拱火的小动作丑态毕露。

耐人寻味的是，日本方面则在执行美方“规定动作”中，有意识降低了对华调门，将管制对象扩大为160个国家和地区，淡化针对中国的指向性即为明证，经产省官僚还特意对外媒表示：“我们对美国的做法感到奇怪的不适。没有必要确定是针对哪个国家，你所需要做的就是控制该物项。”

在此次新规生效后，日本政府官员也强调，日方并未采用美国在出口审核中的推定拒绝原则，并将“尽可能允许出口”，暗示该新规之后的执行尺度将大有余地。

美日双方的动作如同两人三足游戏，看似同步，却已经显露出拉扯的张力。

更进一步审视，从捏合重整本土半导体产业力量、到与美欧韩台等区域的合纵连横，日本在半导体产业政策、贸易政策上种种动作，显然有着更多自利的动机，并非单纯服务于美国战略利益的“利他”之举。

正因如此，美日两国当前的半导体产业合作“蜜月期”也注定将昙花一现，以投名状换取美国技术转移与引资背书的日本，一旦成功重振其半导体产业链，就必将面临在高端市场与美国寡头的零和博弈，这一博弈的结果，则已经在上世纪的美日“芯片战争”中清晰展现。

有趣的是，恰在当年美日半导体产业激烈较量中，1997年7月，NEC在中国投下重注，合资组建上海华虹NEC电子有限公司，动工兴建当时大陆最先进的DRAM晶圆制造厂，以此作为应对美国扶持韩国、中国台湾地区低成本竞争者的重要举措，也开启了中国半导体产业的新纪元。

（曾几何时，909工程也是日本半导体产业反制美国的一步大棋）

整整26年后，日本半导体设备出口管制新规，虽然指向的对象已经颠倒，但内在动机则有着高度的一致，为了本国半导体产业的发展，日本官僚没有永远的盟友，只有永远的利益。

值得警惕的“后手”

从日本半导体设备出口新规出台过程及我方反应看，这一事件带来的冲击相较去年10月美国的“偷袭”显得更为和缓而可控，对大部分成熟制程国内晶圆厂影响或较为有限，过去三个月的贸易数据，也佐证了这一评估。

不过中国半导体产业生态发展，也绝不能侥幸于他人的宽宥或者疏漏，在受制于人的隐患充分暴露后，补链强链是比临机应变更重要的工作。

具体到中日半导体产业联系上，一直以来，除了制造、检测设备，日本产业界在光刻胶等半导体材料、特定半导体产品、通用基础部件等方面同样具有明显比较优势，对我国半导体产业链正常运行有着关键作用，对照此次新规，可以发现日本方面在半导体材料上还保留着能够更直接危害我国产业发展的“后手”。

事实上，2019年日本三大光刻胶供应商东京应化、信越化学和JSR对韩国突然断供，就是一个并不久远的经典案例。在日本断供光刻胶等关键化学品后，三星电子尽管坐拥EUV光刻机，但在先进制程的工艺开发和产品量产上节奏依然被打乱，产生了影响深远的连锁反应，长期合作伙伴高通被台积电挖走，自家Exynos处理器的迭代进度也陷入被动。

近期，日本光刻胶厂商频频爆出重大新闻，如JSR被以近万亿日元的对价由日本半官方机构收购，标志着日本政府在这一关键产业环节的干预能力得到极大强化，与此同时，东京应化也在近期将其主要的大陆合资子公司长春应化（常熟）有限公司股权转让给了合作伙伴，在中国市场的经营模式出现了耐人寻味的调整。

以此观之，尽管此次出台的新规尚未对半导体材料施加新的管制，但我国产业界仍然应当未雨绸缪，在光刻胶等关键材料供应上谋求更大的国产替代突破。

总体而言，日前正式实施的日本半导体设备出口新规固然折射出美日联盟“三心二意”的真实成色，但也同样为中国半导体产业界敲响了警钟，在半导体制程设备自立自强的同时，光刻胶等半导体材料的国产替代同样亟需快马加鞭。

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