中微公司赢得二审胜诉！法院判美国半导体设备大厂侵犯刻蚀机商业秘密！

集微网消息，7月11日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）称，其在针对美商科林研发股份公司（Lam Research Corporation，以下简称“科林研发”）提起的侵犯商业秘密案中赢得二审胜诉。

中微公司介绍，在上海市高级人民法院2023年6月30日的终审判决中，法院命令科林研发销毁其非法获取的与中微公司等离子刻蚀机有关的一份技术文件和两张照片。法院还禁止科林研发及科林研发的两名个人被告披露、使用或允许他人使用中微公司的专有的技术秘密。法院还命令科林研发为其侵犯商业秘密向中微公司支付赔偿金和法律费用。

2010年12月，中微公司向上海市第一中级人民法院就科林研发侵犯公司商业秘密案提起一审诉讼，并于2017年3月赢得一审诉讼。随后，该案件被上诉至上海市高级人民法院。

据悉，中微公司当时主张科林研发在数年前非法获取了中微公司机密的技术文件和机密的反应腔内部照片。中微公司还主张科林研发安排其技术专家在证据保全时，不恰当地察看和测量中微刻蚀机的内部结构，在这之后，使用其获取的信息于2009年1月向中国台湾地区的智慧财产法院起诉中微专利侵权，试图影响中微产品进入中国台湾市场。

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