国内业者翘首期盼 ASML推「特供版」微影设备？

荷兰政府发布深紫外光（DUV）及更先进的半导体微影设备出口管制新规，将于9月1日正式实施；恐影响国内业者先前下订数十台微影设备交机；长远而言，国内半导体业者将加速设备自主进程，尤其是微影核心设备及零组件国产替代化的脚步。

国内业者对于此次新规进行「沙盘推演」，至少有三套「剧本」。第一，荷兰与美国同步禁止14纳米以下微影设备（28纳米可供）；第二，荷兰仿效日本禁止所有浸没式微影设备（45纳米以下禁止）；第三，45纳米以下微影设备须需提出申请，经过审批决定是否输出。

这三套「剧本」经过推演，如今结果出炉：9月起，ASML需要向荷兰政府申请其最先进的浸没式DUV微影系统（TWINSCAN NXT:2000i和后续浸没式系统）所有装运出口许可证。

但业者认为，通过审核的机率极低，但其他机种则不受限，如先前国内逻辑与存储器晶圆厂已大量下订的ASML 1980Di DUV微影设备。

据ASML官网数据，1980Di最大分辨率可实现38纳米，小于荷兰政府规定的45纳米，但其DCO指标为最大1.6纳米，不满足法规中小于等于1.5纳米的要求，因此该机种目前未受限。

ASML 1980Di DUV设备适用于10~16纳米制程，通过多重曝光可实现7纳米制程。比照台积电制程进度，N7节点于2018年4月正式量产，就是使用ASML 2016年发布的1980Di采用DUV制程。

尽管1980系列机台「理论上」不受限制，可通过多重曝光技术仍能下探至7纳米，但「实际上」美国2022年要求限制14纳米以下设备，由于荷兰的微影设备中包含美国零组件，因此美法规也适用于荷兰。

未来ASML 1980系列微影设备可能「改版」，使其相关性能不能越过14纳米，不排除有出货给国内客户生产28纳米制程所用「特供版」之可能。

关键是9月新规实施后，会否影响这数十台微影设备交机？国内逻辑与存储器晶圆厂粗估，尚未交机近数十台，交机时间落在2024年后。如果后续「特供版」设备仍能顺利交机，对国内业者来说或可暂松口气。

目前国内28纳米设备国产化比率大约已提升至30%，具备微影设备生产能力的主力是上海微电子设备有限公司，SSX600系列可制作90纳米、110纳米、280纳米微影制程。

未来一、两年或许在产业端仍有待验证，但若禁令持续进逼，很可能加速国内业者投产的规划进程。此外，还有许多国内零组件业者也投入微影设备技术，包括物镜、光源或浸液系统等。长期看来，微影设备很可能成为国内本土设备真正的转折点。

此外，受荷兰禁令限制的原子层沉积系统（ALD）设备，还有ASMI出口国内金属沈积ALD设备，和部分用于矽/锗矽/碳掺杂锗矽外延生长的设备。对未来国内替代类设备业者如北方华创、拓荆科技、微导纳米、中微则是长期利好消息。