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来源:DIGITIMES发布时间:2023-06-271181浏览
询问 AI先进半导体制程需使用大量氢来避免内部材料氧化,极紫外光(EUV)微影机每分钟需使用约600公升氢。英国真空系统公司Edwards Vacuum与比利时微电子研究中心(Imec)开发出了回收大部分材料的方法。
根据IEEE Spectrum报导,EUV机台是让晶体管密度能不断增加的重要工具,这些价格高达1亿美元且大如拖车的系统,可将接近X光波长的光从复杂的镜面反射至矽芯片上,建立纳米级准确度的图案。由于空气会吸收系统的13.5纳米光,因此整个机制需在真空环境下进行。
系统和微影过程会产生污染物,因此机器需要每分钟吹送约600公升的氢流来清除可能弄脏其精密光学元件的污染物,且未来数量可能会持续增加,制程所产生的大量余氢如何循环再利用,成为业界关注的焦点。
要成功制造出EUV光源必须透过千瓦级的雷射,以高频率击打熔化的锡滴,产生电浆,才能激发出极紫外光。氢流可防止蒸发的锡弄脏系统的光学元件,并且可以带走电浆产生的高热。
为了降低EUV的碳足迹及拥有成本,Edwards的工程师想出一种方法,可回收高达80%的气体。技术经理Anthony Keen表示,氢虽可透过转化成电力回收,但仍会消耗100%的资源,将余氢清理乾净再送回机器才是最有效的方法。
Edwards的氢回收系统有点类似氢燃料电池,只是反过来。将气体与少量水份和氮气混合后,迫使被离子化的氢通过质子交换膜,膜的另一面,质子与电子会重新结合形成纯氢,最后的纯化步骤会去除任何通过膜迁移的水,将所有污染物都留在电池的另一面。
作为Imec永续半导体技术和系统(SSTS)计划的一部分,Edwards和Imec在Imec的12寸晶圆试产在线测试一个具有80个电化学堆叠、每分钟可处理750公升的回收系统,测试结果显示该系统可回收70~80%的氢,减少净能源的消耗。
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