台积电技术论坛中国场21日登场 魏哲家带队出席

晶圆代工龙头台积电 (2330-TW) 将于 21 日在中国召开技术论坛，由总裁魏哲家亲自带队，包括业务开发暨海外营运办公室资深副总张晓强、欧亚业务及技术研究资深副总侯永清也将出席，此行传也将拜访多家中国 IC 设计客户。

台积电日前在台湾场技术论坛上表示，在行动和高效运算应用驱动下，3 奈米将实现快速且顺畅的产能提升，良率很快可以跟 5 奈米一样好。

提及 2 奈米以下的技术创新，台积电也指出，在奈米片 (nanosheet) 后，垂直堆叠的 NMOS 和 PMOS(互补式场效电晶体 CFET) 是未来制程架构选项之一，并已在碳奈米管和 2D 材料等低维材料方面，取得突破。

董事长刘德音日前也在股东会后表示，台积电先进制程将持续根留台湾，2 奈米发展进度让客户非常放心，目前看起来比 1.8 奈米 (意指 Intel) 好很多。