应用于90~28纳米制程 南大光电ArF光阻剂驰援国内进口替代

美国拜登政府2022年10月间，祭出全面性出口管制国内半导体设备暨高端芯片禁令后，又在2023年上半取得荷兰、日本政府首肯，达到多边围堵之效，但半导体微影制程关键材料DUV光阻剂（又分KrF与ArF等）与EUV光阻剂，至今仍是外媒点名的管制缺口。

尽管国内媒体与外媒彭博（Bloomberg）从2023年初以来，多次传出美国政府将联合日本、德国等重要光阻剂供应商，断供国内半导体产业，不过目前仍未见具体措施并付诸移动。

全球光阻剂市场主要由JSR、东京应化（TOK）、杜邦（DuPont）、信越化学、住友化学（Sumitomo Chemical）及富士软片（Fujifilm）等制造商所垄断，尤其是在半导体光阻剂的高端KrF和ArF领域，前六大厂商中，除了杜邦为美商外，其他均为日厂。

目前国内半导体光阻剂的国产化还处于较低水准，半导体领域的高端光阻剂产品更是严重依赖进口。但国内厂商可望在北京当局进口替代政策下，加速光阻剂产品的国产替代进程。

当前国内光阻剂企业多分布在技术难度较低的PCB光阻剂领域，占比超9成，而技术难度最大的半导体光阻剂市场，中厂仅有彤程新材、华懋科技、南大光电、晶瑞电材和上海新阳等少数几家。

南大光电日前证实，目前研发和产业化的ArF光阻剂，已可广泛应用于90~28纳米技术节点的各种高端IC芯片生产制造。这也反映了国内业者在推进193纳米曝光的DUV光阻剂，力道不弱。

金融时报（FT）先前引述日本半导体材料关键供应巨擘JSR表示，国内缺少产业基础设施，即便北京当局努力达到半导体自给自足，但想要开发先进芯片制造科技仍旧「非常困难」。

美国多边围堵移动，促使国内大举投资本土的半导体供应链，但JSR表示，想将极紫外光（EUV）微影这门技术练到纯熟，并非易事，即使国内「取得精确的化学配方，还得考虑制造时能否达成高纯度、精确及重现性（Reproducibility），这非常困难，而且国内也没有供应链可支持。

不过，在中芯国际入列美国政府贸易黑名单后，尽管取得EUV微影设备，但推进7纳米以下先进制程商业化量产，仍面临多重挑战；而国内半导体产业仍希望在中端／成熟制程节点，推进国产替代，不希望重蹈科技锁喉的难题。

对此，全国内第一家通过ArF国产光阻剂认证的半导体上市企业南大光电，不仅已经供货中芯国际、京东方等国内指标企业，也获得国内半导体产业大基金的战略持股，企图成为国内在光阻剂供应上，不再完全仰赖日本、美国与德国供应商的本土选项。

南大光电日前在投资者互动平台上也表示，目前公司的ArF光阻剂产品验证工作，已在多家下游客户稳定推进，且针对同一客户的不同需求，开发了不同的产品，以满足下游客户的多样化需求，惟量产规模需根据订单情况确定。

由于ArF光阻剂验证周期长，一般需要18个月甚至更久，但南大光电已有两款光阻剂产品，通过客户认证，目前正在推进其他客户验证导入。

尤其是在半导体光阻剂的高端KrF和ArF领域，前六大厂商由日本与美商主导。彭博