浙江奥首14nm节点以上芯片光刻胶剥离液已实现量产，已通过验收评审

据衢州经信消息，浙江奥首材料科技有限公司开发的新产品“14nm节点以上芯片光刻胶剥离液”已实现量产，企业负责人介绍，2023年有望实现销售收入 2000多万元。近日，奥首开发的“14nm节点以上芯片光刻胶剥离液”通过了专家验收评审，专家们一致认为产品的技术水平已达到国际先进水平。

新产品具有去胶能力强、清洗良率高、金属离子含量低、不含苯酚或氯化溶剂、金属蚀刻速率低等特点，主要应用于半导体芯片光刻图形化工艺后残留光刻胶的清洗领域，尤其是大规模集成电路14nm技术节点以上芯片光刻后的清洗。

资料显示，奥首成立于2014年，是1家专业从事集成电路和先进显示功能化学品研发生产的国家高新技术企业，建有3000多平百级/千级洁净实验室、洁净中试车间及数十条自动化洁净生产线。

目前，奥首已开发了集成电路的功能电子化学品产品50多种，部分产品可与美国杜邦、日本TOK、德国巴斯夫等同类产品相媲美，主要客户涵盖欧司朗、中芯、长电、华润等国内半导体企业。

封面图片来源：拍信网