国产芯片又攻克一个3纳米环节，先进工艺量产并不遥远

由于众所周知的原因，中国难以获得先进的光刻机，这导致中国在先进工艺方面一直困难重重，不过中国芯片行业并未因此而停止前进的脚步，而是持续点突破，近日就有消息指出中国在一个芯片环节突破了3纳米。

据悉国产EDA厂商概伦电子表示它的EDA已经可以支持7纳米、5纳米、3纳米，由于它的EDA软件足够先进，因此获得了台积电、三星、中芯国际等诸多主流的芯片代工厂认可，凸显出它的EDA软件已具有国际竞争力。

EDA是芯片制造的一个重要环节，美国的新思科技等三家EDA软件企业垄断了八成以上的EDA市场，美国阻碍中国芯片发展的一个措施就是限制新思科技等EDA软件企业为中国芯片行业提供先进的EDA软件，可见EDA软件的重要性。

恐怕美国也没有想到它的做法，结果是加速了中国的EDA软件发展，除了概伦电子之外，国内还有华大九天等诸多EDA软件企业积极发展EDA软件，此前国内企业优先采用新思科技的EDA软件自然是考虑技术工程师的使用习惯以及生态，美国采取措施后，中国芯片企业开始积极采用国产EDA软件。

随着中国的芯片设计企业开始使用国产EDA软件，台积电、三星等芯片代工企业为了满足客户的要求，自然也开始采用中国的EDA软件，由此进一步加速完善国产EDA软件的生态；同时这也能为国产EDA软件带来收入，加速中国EDA软件技术的发展，成为中国的EDA软件迅速发展的重要推动力。

EDA软件可谓这几年在美国压力下促使中国芯片快速发展的缩影，除了EDA软件之外，中国在芯片制造的诸多环节都在快速发展，刻蚀机达到了5纳米，封装技术达到了4纳米，其他芯片环节也大多达到了14纳米，目前限制中国芯片制造行业的主要环节就是光刻机。

国产光刻机如今正努力推进28纳米光刻机的发展，一旦28纳米光刻机实现量产，那么14纳米甚至7纳米光刻机都不会成为问题，因为这些光刻机都会采用浸润式技术，而28纳米光刻机已经通过技术验证，有说法是再有3年时间，中国的先进光刻机就会得以量产。

在芯片技术方面，中国也先后打破了存储芯片、射频芯片、GPU芯片等的空白，短短数年时间所取得的进展，让海外同行瞠目结舌，他们都没想到中国芯片在美国的压力下竟然爆发出如此巨大的潜力。

中国芯片行业正是通过一个点一个点突破的方式，先攻克容易突破的技术，最后集中资源攻克技术难度最大的光刻机，一旦光刻机取得突破，中国芯片腾飞的时刻就会到来，这就是从点突破最终实现全面突破。

依托于中国芯片各个行业的共同努力，中国的芯片产业链已日益完善，芯片产业链的完善代表着中国芯片自主技术研发体系的成型，这对于美国主导全球芯片技术发展方向无疑是巨大的挑战，美国的做法并无法阻挡中国芯片的发展，反而成为中国芯片前进的动力，推动中国芯片在短短数年时间取得的技术成就超过了过去几十年。

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