包含DUV光刻技术！荷兰拟对华实施半导体出口新限制

• 第四届半导体湿电子化学品与电子气体论坛将于4月26日在杭州召开

• 湿法制程设备与技术论坛2023将于4月27-28日在杭州召开

荷兰政府周三表示，计划对半导体技术出口实施新的限制以保护国家安全，加入美国遏制对华芯片出口的行列。

据路透社报道，荷兰贸易部长Liesje Schreinemacher在给议会的一封信中宣布了这一决定，并表示这些限制将在夏季之前实施。

她的信中没有提到荷兰的主要贸易伙伴中国，也没有提到荷兰半导体设备主要供应商ASML，但中国和ASML都将受到影响。信中指出，其中一项将受到影响的技术是“DUV”光刻技术，这是ASML销售给电脑芯片制造商的第二先进设备。

Schreinemacher在信中指出，“荷兰认为，出于国家安全考虑，有必要以最快的速度对这项技术进行监管，内阁将出台一份国家控制清单。”

她写道，荷兰政府已经决定采取尽可能谨慎和精确的措施，避免不必要的价值链中断。重要的公司应该知道自己面临着什么，并有时间适应新规则。

ASML回应称，预计将不得不申请出口DUV机器中最先进部分的许可证，但这不会影响其2023年的财务指导。

在美国的压力下，荷兰将限制某些类型的DUV设备额外的出口管制。但可用于制造不太先进的芯片的旧DUV机器不在限制范围内。目前尚不清楚ASML必须为11种不同的DUV版本中的哪一种申请出口许可证。

ASML预计只有TWINSCAN NXT:2000i和后续系统会受到额外出口管制的影响，主要关注成熟节点的客户可以继续使用不太先进的浸没式光刻工具。但尚未确定。

ASML官网显示，TWINSCAN NXT:2000i型号光刻机可用于38nm及以下制程的芯片制造。

由于38nm仅指一次曝光的分辨率，因此仍可以通过多次曝光实现更先进制程的制造，但步骤更为复杂、良率损失交大，成本较高，因此大多用于生产14nm以上芯片。

此外，据computable报道，除了ASML“DUV”光刻技术将受影响外，规模较小、几乎同名的ASM International（简称ASMI）也将受限。

ASMI生产用于采用原子层沉积（ALD）技术芯片的晶圆涂层设备。ASMI首席财务官Paul Verhagen表示，根据目前的估计，限制将影响的产品占中国销售额的七分之一到四分之一，占整个集团销售额的3%左右。

ASMI在美有庞大业务，此前有报道认为，ASMI宁肯牺牲中国的销售。根据ASMI去年11月份的预估，美国出口管制将对该公司造成欧洲主要芯片公司里最严重的冲击，影响到ASMI对中国的40%销售，占ASMI营收达16%。ASMI CEO Benjamin Loh此前表示，中国对ASMI的业务占比不小，但还不致于置我们于死地。

来源：集微网、芯榜等

晶圆制造是当今工业制造皇冠上的明珠，高纯度湿电子化学品是晶圆制造过程中清洗、光刻、蚀刻等工艺流程的必备材料，也应用于后端的封装测试环节。SEMI预计2022年中国半导体用湿电子化学品市场规模为4.28亿美元，同比增长14.13%。

电子气体是半导体制造、显示制造等产业的主要耗材之一，是中国战略性新兴产业发展中必不可少的关键支持材料。近年来中国本土气体企业如派瑞特气、华特气体、南大光电等的部分产品已经进入国内外先进晶圆厂中。SEMI预计2022年国内电子气体市场规模可达11.13亿美元，同比增长14.15%。

未来三年将是中国半导体制造产业高速发展期，中芯国际、华虹宏力、长江存储、长鑫存储等企业加速扩产，格科微、鼎泰匠芯、华润微等企业布局的多条8/12英寸晶圆生产线也将陆续投产，这将带动国内高于全球湿电子化学品与电子气体的需求增速。

在出口管制限制、实体清单打压以及各国不同版本芯片法案频出强化本土供应链背景下，半导体产业链安全愈发重要，同时国产化率较低及突破品种不足仍表明，培养稳定的本土材料供应商势在必行，这将给国内企业带来巨大的机遇。半导体电子化学品及气体将迎来空前发展机遇。

第四届半导体湿电子化学品与电子气体论坛2023将于4月26日在杭州召开。会议由亚化咨询主办，多家国内外龙头企业重点参与。

会议主题

1、含硅特种气体及其前驱体

2、半导体用大宗气体市场情况

3、半导体用干刻、清洗气体

4、半导体光刻功能性湿化学品及气体

5、半导体清洗剂的现状及替代品

6、半导体CMP抛光研磨液

7、电子级氢氟酸的纯化技术及技术发展

8、半导体级双氧水、硫酸在先进晶圆厂中的应用

9、半导体封装用电镀液市场及发展

10、半导体湿电子化学品废液处理技术

湿法制程（工艺）即制造过程中需要使用化学药液的工艺，被广泛使用于集成电路、平板显示、太阳能光伏等领域的制造过程中。以集成电路领域为例，晶圆制造过程共有七大工艺步骤，分别为氧化/扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、清洗与抛光、金属化。其中，清洗与抛光、湿法刻蚀及光刻的显影、去胶等步骤所对应的专用设备就包含了湿法制程设备。

半导体专用设备在半导体行业产业链中占据重要的地位，且市场规模庞大。根据SEMI的统计数据，2021年全球半导体制造设备市场达到1030亿美元，估计2022年增长5.9%达到1085亿美元。此外，随着本土晶圆厂不断扩建投产，国内设备市场成长性高于全球，国内设备商受益于国产替代，业绩表现强劲。

更高精度的制程需要成倍于成熟工艺的湿法工序，设备作为湿制程中成本占比最高的部分，市场规模也不容小觑。以半导体清洗设备为例，根据亚化咨询预测，2025年全球市场将达到近41亿美元的规模。此外，清洗设备的国产化率仅在20%左右，可见未来国内湿制程设备的广阔机遇。

湿法制程设备与技术论坛2023将于4月27-28日在杭州召开，探讨新形势下湿制程设备产业发展的现状与趋势、上下游市场产生的新需求等问题，为湿制程设备业持续发展提供坚实的支撑。会后，论坛还将组织特有的产业链对接互动等活动。

会议主题

1、半导体设备行业经济运行剖析和成长展望

2、中国半导体设备行业支撑政策讨论

3、涂胶显影设备介绍及技术能力展示

4、清洗设备制造介绍与国内技术

5、湿法刻蚀设备的发展与国内技术

6、半导体技术革新对设备产生的新需求

7、湿制程配套大宗湿电子化学品产业现状及发展

8、功能性湿电子化学品（抛光/去胶/刻蚀液等）产业现状及发展

9、湿制程设备及材料的国产化现状

10、产业园区参观

若您有意向参会、赞助及做演讲报告，欢迎联系我们（联系方式请参见文中及文末配图）

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