传三星有望年内引入自制EUV光罩护膜

集微网消息，据台媒《电子时报》报道，三星电子最快将于2023年内在极紫外光（EUV）光刻工艺中引入自研的光罩护膜，有望提升晶圆代工竞争力和带动光罩护膜材料、零部件需求。

据悉，三星电子已经开始开发一种先进的极紫外（EUV）薄膜，以缩小其与代工对手台积电的市场份额差距。三星半导体研究所最近的一份招聘通知中提到，将开发一种透光率为92%的EUV薄膜。此前报道显示，三星电子已经开发出透光率高达88%的EUV薄膜，而且已经可以大规模生产。这意味着这家韩国科技巨头已经达成上述目标，并提出了一个新的发展路线图，即将透光率提高4个百分点。

TechInsights报道指出，在 Exynos 990 中发现了三星真正的7LPP工艺，该工艺包含在其旗舰产品Galaxy S20中。正如业界预期的那样，这种7纳米EUV工艺提供了三星迄今为止观察到的最高密度布局。

（校对/王婉青）