(Daily Issue)国内自产微影设备唯一希望：上海微电子

上海微电子仍然相当依赖进口零件的供应，因此被列入实体清单，可能造成一定冲击。上海微电子装备集团

上海微电子装备集团于2002年在张江高科技园区成立，主要投入泛半导体设备与高端智能设备的开发与制造，产品广泛应用于芯片前段制程、先进封装、平面显示器面板、微机电系统（MEMS）、LED、功率装置等制造领域，被视为是帮助国内实现微影设备国产替代的最大希望。

回顾发展历程，上海微电子先后在2009年与2016年，分别完成旗下首台先进封装微影设备，以及旗下同时也是国内首台前段制程扫描微影设备的出货，是一大里程碑；之后在2018年，90纳米微影设备正式通过验收。接着来到2020年，上海微电子宣布，国内第一台28纳米浸润式微影设备，会在2021~2022年间出货。从90直接跳到28纳米，固然是极大的进步幅度，但目前时序已进入2023年，官方仍未正式推出该产品。

荷兰龙头业者ASML目前已经推出的最先进微影系统，分辨率13纳米，可支持5纳米甚至是3纳米逻辑节点量产，而上海微电子最先进的则是600系列，最佳分辨率90纳米，可见相差ASML甚远。但在上海微电子被列入实体清单以前，Seeking Alpha曾引述业界说法，预测上海微电子有可能在2025年以前赶上ASML。

上海微电子也因此被视为是国内自主开发微影设备，以取代先进制程所必要的ASML系统的唯一希望所在。然而，其设备从未实际投入半导体的大量生产工作使用，而且仍然重度仰赖国内难以独自开发出来的进口零件，例如美商万机科技（MKS）所供应的产品。中媒担心，上海微电子被列入实体清单，会导致国内国产设备研发进度受到拖累。金融时报（FT）也引述一名负责上海微电子发展计划的上海官员评论，指出「还有很长一段路要走」。

但根据这名官员，以及丹麦哥本哈根商学院（CBS）国内半导体产业专家Douglas Fuller的说法，与其他国内设备业者不同，上海微电子并没有美国员工，也已经组成经验丰富的团队，取代因为美国2022年10月发布的新规定而被调走的ASML现场人员的角色。可见，美国对国内半导体新制裁措施当中，至少在半导体人才这部分，上海微电子所受影响相对小。

责任编辑：陈至娴