机构：新一代光刻技术专利竞争，台积电遥遥领先三星电子

集微网消息，据外媒报道，研究机构TechInsights日前梳理了各大企业在EUV、纳米压印等新一代光刻技术领域专利持有情况，对象包括ASML、台积电、三星电子、卡尔蔡司等主要玩家。

TechInsights发现，主要企业EUV光刻专利数量为1114件，其中蔡司（353例）和ASML（345例）占据了相当大的比例，台积电在晶圆代工界排名第一，也拥有279项专利，三星电子为137项，是其主要竞争对手台积电的一半。

NIL（纳米压印）方面，佳能拥有的NIL光刻技术专利数量为913件，台积电和三星电子分别拥有145项和70项专利。

DSA（引导自组装）方面，三星电子拥有68项专利，领先于台积电的24项专利。

TechInsights表示，“台积电是领先的先进光刻技术研发代工厂，在EUV上投入最多，但在NIL和DSA上也非常重视。”

与此同时，北美的主要半导体公司如英特尔、IBM、格芯，专利持有量均在前10名之外，而中国科学院积极投入EUV相关技术开发，显示EUV/NIL/DSA专利数量直到最近一直在持续增加。（校对/周宇哲）