南大光电：缺陷检测设备对28nm以下制程芯片用光刻胶的检测有重要作用

集微网消息，有投资者在投资者互动平台提问：11月18日，你回复说“缺陷检测设备尚未完成采购”，12月2日，你回复说“缺陷检测设备主要针对28nm以下，而公司的ArF胶聚焦28-90nm，检测设备如光刻机已正常投入使用” 请问，目前正常使用的光刻机是什么时候采购的？缺陷检测设备既不是目前主要攻关课题，为何要抓紧采购？

南大光电2月3日在投资者互动平台表示，光刻机于2020年上半年采购进厂。 缺陷检测设备对28nm以下制程芯片用光刻胶的检测有重要作用。

此外，有投资者提及，公司ARF光刻胶项目自2021年七月通过专家组验收开始到各芯片企业进行验证后，现在已经验证了一年半的时间，请问贵公司的光刻胶项目验证情况如何？到底何时能够通过验证量产，请给广大投资者一个准信，具体时间，到底还行不行？

南大光电表示，子公司宁波南大光电正在积极开展ArF光刻胶的客户验证工作，已有两款产品通过验证，目前有多款产品正在多家客户进行认证。