上海新阳新动态！

12月22日，上海新阳在投资者互动平台上表示，合肥新阳第二基地目前在设备安装调试阶段。本部1.9万吨产能未完全投产。

另外，上海新阳还透露，公司ArF类光刻胶样品目前在国内晶圆制造企业验证中。

此前，上海新阳在接受调研时称，二季度上海地区疫情对业务影响有限。半导体业务工艺化学材料生产保持正常，且创公司成立以来单月化学品产量和出货量历史新高。

二季度公司半导体化学材料营业收入同比增长 53.81%，其中，晶圆制造用超纯化学材料同比增长 139.39%。不过疫情期间物流运输成本增加较多，人工成本也有所增加，加之原材料价格上涨，这些情况对上半年业绩有所影响，工艺化学材料毛利较上年同期有11.4%的下降。

光刻胶是一种对光敏感的混合液体，其主要作用是通过光化学反应，基于曝光、显影等光工序将所需要刻蚀的细微图形从光罩(掩模版)转移到待加工硅基片上。除了提高加工精度，光刻胶还可以保护硅基材免受腐蚀，阻止离子影响。

光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，广泛应用于350nm-14nm甚至 7nm 技术节点的集成电路制造工艺。

资料显示，上海新阳是国内知名的半导体材料厂商，形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术，其开发研制出的140多种电子电镀与电子清洗系列功能性化学材料，产品被广泛应用于集成电路制造、3D-IC先进封装、IC传统封测等领域。

上海新阳迄今承担国家02专项研发项目有：“65-45nm芯片铜互连超高纯电镀液及添加剂研发和产业化”、“20-14nm先导产品工艺开发”项目任务课题“高速自动电镀线研发与产业”项目、“铜互连电镀工艺技术及产品的研发”等。（文：拓墣产业研究 Arely整理）

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