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来源:半导体前沿发布时间:2022-12-081173浏览
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12月7日,上海新阳在投资者互动平台表示,KrF光刻胶已批量化生产销售,新客户亦在持续开发中。
另外,上海新阳还表示,合肥新阳项目尚未投产,部分设备已进场。早前于今年3月份,公司表示合肥新阳因市场需求变化,调整项目实施,具体可参见公司相关公告。目前进度略有延后,预计4季度试生产。
据合肥新站区消息,该项目投资3.5亿元,是上海新阳业务向外拓展投资额最大的一个项目。合肥新阳半导体材料有限公司是上海新阳半导体材料股份有限公司的全资子公司,项目建筑面积约5万平方米。项目建设达产后形成集成电路制造和封装的关键功能性超纯化学材料的生产能力,其中包括芯片铜互连超高纯电镀液系列产品,芯片高选择比超纯清洗液系列产品,芯片高分辨率光刻胶系列产品,芯片级封装与集成电路传统封装引线脚表面处理功能性化学材料等。
此前,上海新阳在接受调研时曾透露,二季度上海地区疫情对业务影响有限。半导体业务工艺化学材料生产保持正常,且创公司成立以来单月化学品产量和出货量历史新高;二季度公司半导体化学材料营业收入同比增长 53.81%,其中,晶圆制造用超纯化学材料同比增长 139.39%。不过疫情期间物流运输成本增加较多,人工成本也有所增加,加之原材料价格上涨,这些情况对上半年业绩有所影响,工艺化学材料毛利较上年同期有11.4%的下降。
资料显示,上海新阳是一家始终坚持以技术为主导,坚持瞄准国际前沿技术,面向全球产业需求,突破国际技术垄断,填补国内技术空白,持续进行技术创新与产品研发的高科技企业,历经二十余年发展,已经拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术,电子光刻及电子研磨核心技术正在形成。公司聚焦于集成电路关键工艺材料业务,已建设上海厂区产能1.9万吨/年,合肥第二生产基地一期1.7万吨/年的产品产能,突破公司现有产能瓶颈,为公司进一步加大国产替代速度奠定基础。
来源:集微网

化学机械抛光(CMP)是实现晶圆全局平坦化的关键工艺。CMP工艺贯穿硅片制造、集成电路制造与封装测试环节。抛光液和抛光垫是CMP工艺的核心耗材,占据CMP材料市场80%以上。鼎龙股份、华海清科为代表的CMP材料与设备企业受到行业重点关注。
靶材是制备功能薄膜的核心原材料,主要用于半导体、面板、光伏等领域,实现导电或阻挡等功能。在半导体几大材料中,靶材是国产化程度最高的一种。国产铝、铜、钼等靶材领域取得突破,主要上市公司有江丰电子、有研新材、阿石创、隆华科技等。
未来三年将是中国半导体制造产业高速发展期,中芯国际、华虹宏力、长江存储、长鑫存储、士兰微等企业加速扩产,格科微、鼎泰匠芯、华润微等企业布局的12英寸晶圆生产线也将陆续投产,这将带来巨大的CMP材料与靶材需求。
新形势下,国内晶圆厂供应链安全越发重要,培养稳定的本土材料供应商势在必行,这也将给国内供应商带来巨大的机遇。靶材的成功经验,也将给其他材料的国产化发展提供借鉴。
半导体CMP材料与靶材研讨会2022将于12月29日在苏州召开。会议由亚化咨询主办,多家国内外龙头企业重点参与。
会议主题
1.中国CMP材料与靶材政策与市场趋势
2.美国制裁对国内半导体材料供应链的影响
3.CMP材料与靶材市场与重点企业分析
4.半导体CMP抛光研磨液
5.CMP抛光垫与清洗液
6.CMP抛光设备进展
7.半导体靶材市场供需
8.半导体靶材重点企业动向
9.CMP与靶材技术进展
10.靶材国产化经验及借鉴

第3届第三代半导体论坛将于2022年12月28日召开。多家国内外龙头企业参会,重点关注碳化硅、氮化镓上下游产业链;最新衬底、外延、器件加工工艺和生产技术;展望氧化镓、氮化铝、金刚石、氧化锌等宽禁带半导体前沿技术研究深度进展。并将参观国内第三代半导体材料与设备产业园区和重点企业。
会议主题
1.美国芯片禁令对中国第三代半导体发展的影响
2.全球与中国第三代半导体市场及产业发展现状
3.晶圆产能供需与第三代半导体市场机遇
4.6吋SiC项目投资与市场需求展望
5.SiC PVT长晶技术液相法的现状及发展
6.8吋SiC国产化进程和技术突破
7.SiC市场以及技术发展难题解决方案
8.GaN射频器件及模块在5G基站方面的应用
9.GaN在快充市场中的发展及替代情况
10.GaN激光器件技术和市场应用
11.国产化与技术及设备发展机遇与挑战
12.其他第三代半导体发展前景
13.工业参观与考察(重点企业或园区)
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中国大陆半导体大硅片项目表(月度更新)
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中国大陆上月半导体前道设备进口数据表(月度更新)
中国大陆半导体大硅片项目地图(月度更新)
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