国内首款！华中大团队成功研发计算光刻EDA软件

近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在相关企业实现成果转化和产业化，填补了国内空白。

光刻成像原理图（Source：华中科技大学）

刘世元介绍，光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，就是通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。

在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为OPC（光学临近校正）的算法软件进行优化。没有OPC，所有IC制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。

计算光刻OPC原理图（Source：华中科技大学）

目前，全球OPC工具软件市场完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美国公司占领。

刘世元是华中科技大学集成电路测量装备研究中心、光谷实验室集成电路测量检测技术创新中心主任。

研制的仪器、软件、测量装备等多项成果已实现成果转化和产业化，在中芯国际、长江存储、华为、京东方、华星光电等微电子、光电子龙头企业获得批量应用。（文：拓墣产业研究 Amber整理）

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