武汉宇微光学成功研发计算光刻OPC软件

集微网消息，近日，武汉宇微光学软件有限公司（以下简称“宇微光学”）成功研发全国产、自主可控的计算光刻OPC软件。目前正在做集成与测试，并到芯片生产厂商做验证。

宇微光学成立于2020年10月，公司依托华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室、武汉光电国家研究中心等国家级平台在集成电路制造领域十余年深耕取得的重要成果，致力于光刻掩模优化设计技术与软件（OPC软件）的自主开发。

今年7月，宇微光学完成A轮数千万元融资。本轮融资完成后，宇微光学将进一步加强各核心模块的集成化与软件产品化，同时对各项软件参数进行标定、测试与验证。

刘世元教授表示，在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为OPC（光学临近校正）的算法软件进行优化。OPC是EDA（电子设计自动化）工业软件的一种。没有OPC，所有IC制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。

中国光谷消息显示，宇微光学创始人华中科技大学刘世元教授，是华中科技大学集成电路测量装备研究中心主任，同时也是光谷实验室集成电路测量检测技术创新中心主任。2002年，加盟上海微电子装备有限公司（SMEE）。其组建了SMEE第一个控制工程实验室，解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步控制的技术难题。（校对/韩秀荣）