构建自主知识产权优势，三利谱获颁11项专利证书

集微网消息，10月28日，三利谱发布公告称，公司于近日收到中华人民共和国国家知识产权局颁发的11项专利证书，并就专利情况进行了说明。

其中，“定位校准器具及偏贴设备”专利包括：包括：支撑座，所述支撑座用于放置偏光片，所述支撑座上形成有第一刻度部和第二刻度部，所述第一刻度部用于测量所述偏光片上标记的长度位置是否满足设计要求，所述第二刻度部用于测量所述偏光片上标记的宽度位置是否满足设计要求；第一定位挡板，所述第一定位挡板设置于所述支撑座上并与所述第一刻度部对应设置；以及第二定位挡板，所述第二定位挡板设置于所述支撑座上并与所述第二刻度部对应设置。本方案不仅操作方便快捷，同时省时省力，效率高，利于提升经济性并保证生产节拍。

“膜材支撑治具及偏光片生产设备”专利包括：膜材支撑治具包括支撑组件与调节组件，其中支撑组件包括连接件和至少两个间隔设于连接件上的支撑杆，至少两个支撑杆被配置为沿膜材的输送方向间隔分布，以对膜材进行张紧；调节组件用于设置在预设位置；连接件装配于调节组件上，且连接件在调节组件上的位置和角度均可调；一种偏光片生产设备，包括生产装备本体与膜材支撑治具。本申请提供的膜材支撑治具，能够防止PVA膜在经过夹辊运输之后出现断膜的情况，进而降低了材料损失率，节约生产成本。

“膜用超声波除尘装置及除尘设备”专利提供了一种膜用超声波除尘装置及除尘设备，膜用超声波除尘装置包括壳体，壳体内设有彼此隔绝的负压腔和超声波发生腔，壳体上设置有与负压腔连通的负压抽吸孔，以及与超声波发生腔连通的超声波发射孔，负压抽吸孔和超声波发射孔均朝向壳体外的同一侧。本申请的膜用超声波除尘装置通过发射超声波作用于待除尘膜，使待除尘膜产生高频振动，从而使待除尘膜上的粉尘、微液滴自动从待除尘膜上脱落，不需与待除尘膜直接接触，也不会引入其他污染源，更不会随着长时间使用造成污染物堆积以及二次污染。本申请的膜用超声波除尘装置使用方便、不影响待除尘膜的表面质量。本申请提供的除尘设备由于具有该除尘装置，因此，也具有该除尘装置的优点。

三利谱表示，上述专利的取得，对公司的生产经营情况不构成重大影响，但有利于进一步确立公司的自主知识产权优势，并对公司的技术创新、产品创新、市场及品牌影响力提升等方面产生积极的影响，从而提升公司的核心竞争力。

（校对/占旭亮）