普达特科技进军CVD设备领域 前期投入1.4亿元

10月12日，普达特科技发布公告称，本公司正按计划开展CVD（化学气相沉积）设备业务，公司前期将向该业务投放人民币1.4亿元。按计划， CVD产品的范围包括用于制造12吋芯片的多种先进热CVD设备，公司预期相关产品将于2024年进入商业生产阶段。

普达特科技表示，热CVD设备应用于半导体设备制造业薄膜沉积过程中，在该过程采用的产品中，发挥着关键的作用。公司认为CVD设备业务将为国产替代提供强大推动力，同时具有广阔的市场空间。

普达特科技的设备业务目前有两大板块，半导体设备以及太阳能设备。其中，半导体业务依靠公司强大的自研团队及外延式并购双轮驱动，主要涉及单片机清洗设备以及薄膜沉积工艺的CVD设备。太阳能业务是通过收购德国RENA公司中国区太阳能业务而来，主要涉及湿法清洗制绒设备以及铜电镀设备。

据了解，今年以来，普达特科技接连公布了自研半导体清洗设备投产并获得市场订单的消息，向下游客户提供单片湿式处理设备以及设计及制造其他半导体清洗产品。此次开展CVD设备业务，也意味着普达特科技将进入除清洗以外的另一大半导体制造重大工艺、工序板块。

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