投资5.48亿元，光驰半导体原子层镀膜与刻蚀设备项目开工

集微网消息，9月23日，光驰半导体技术（上海）有限公司原子层镀膜与刻蚀设备项目开工奠基仪式在上海宝山高新区举行。

据悉，光驰半导体项目占地50亩，总投资5.48亿元，定位新型电子元器件及设备制造，利用全球泛半导体产业链的调整与相关前沿研发的投入与技术整合，实现电子专用设备制造产业化、规模化，成为光驰研发总部创新高地。项目全部建成后将具有年产高精度原子层镀膜机120台和5台刻蚀机的产能。

光驰半导体技术（上海）有限公司是光驰科技（上海）有限公司的全资子公司。光驰科技官网消息指出，该项目的开工标志着上海光驰的镀膜设备生产占地面积达到5.33万平方米，可以有更大的制造空间与产能提升，以及光驰的产品线从传统光学到半导体光学融合，光学元器件向半导体集成光学的转变。

光驰科技（上海）有限公司成立于2000年，是株式会社光驰（OPTORUN CO.,LTD）投资成立，以高精度镀膜机的设计与制造为基础的外资独资型企业。（校对/魏健）