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来源:半导体前沿发布时间:2022-07-27556浏览
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美光宣布,已开始量产全球首款232层的3D TLC NAND闪存,采用领先行业的创新技术,为存储解决方案带来了前所未有的性能。与过往美光的NAND闪存芯粒相比,232层的NAND闪存有着业界最高的密度,并提供了更大的容量和更高的能效,从而为客户端到云端等数据密集型用例提供一流的支持。
美光的技术和产品执行副总裁Scott DeBoer表示,232层的NAND闪存是存储创新的分水岭,首次证明了生产中将NAND闪存扩展到200层以上的能力,该项突破性的技术需要广泛的创新,包括创建高纵横比结构的先进工艺能力、新型材料的进步以及基于176层NAND闪存在设计上的改进。

这款232层NAND闪存引入了业界最快的I/O速度,达到了2.4 GB/s,比176层的NAND闪存高出50%,同时写入带宽提升100%,读取带宽提升75%。同时还是全球首款量产的六平面TLC NAND闪存,不但比其他同类TLC NAND闪存有着更多的平面,而且每个平面都具有独立的读取能力。高I/O速度、低读写延迟和六平面架构相结合,使其能够提供一流的数据传输速度。
此外,美光的232层NAND闪存是首款支持NV-LPDDR4的产品,这是一种低压接口,与之前的I/O接口相比,每比特传输节省30%以上能耗。232层NAND闪存的紧凑外形为产品的设计提供了更多的灵活性,其每平方毫米TLC密度为14.6 Gb/mm,比其他同类产品提高了35%到100%。另外,232层NAND闪存采用新的11.5 x 13.5 mm封装,尺寸比前几代产品减小了28%,使其成为市面上最小的高密度NAND闪存,能最大限度地减少电路板空间。
美光表示,232层3D TLC NAND闪存已经在其位于新加坡的工厂开始批量生产,首批芯粒将用于英睿达(Crucial)的消费端SSD,随后再供应给其他产品使用。
来源:超能网

第三届半导体湿电子化学品与电子气体论坛将于2022年7月28-29日在三亚召开。会议由亚化咨询主办,多家国内外龙头企业将重点参与,探讨未来半导体材料,特别是湿电子化学品和特种气体的国际经验和中国机遇与挑战。多家国内半导体湿电子化学品及电子特气行业重点企业将出席会议并作演讲报告。
会议主题
含硅特种气体及其前驱体
半导体用大宗气体市场情况
半导体用干刻、清洗气体
NF3、SF6、WF6、N20、NH3等气体的市场及应用
半导体晶圆高端清洗技术
半导体清洗剂的现状及替代品
电子级氢氟酸的纯化技术及技术发展
半导体级双氧水、硫酸在先进晶圆厂中的应用
半导体封装用电镀液市场及发展
半导体湿电子化学品废液处理技术
参会或赞助请联系:朱经理17717602095(微信同号)

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