三星李在镕访ASML取得额外EUV！

6月16日，据韩媒报道，三星电子副董事长李在镕将从荷兰 ASML取得额外极紫外微影曝光设备 (EUV)，对三星下一代半导体生产至关重要。不过三星没有透露这些额外 EUV 微影曝光设备细节。

韩媒《BusinessKorea》报导，三星 15 日表示，李在镕在半导体事业暨装置解决方案事业部部长庆桂显陪同，当地时间 6 月 14 日在荷兰Veldhoven 的 ASML 总部会见 ASML 执行长Peter Wennink 和技术长 Martin van denBrink 等高层，双方就未来半导体技术、半导体市场前景、EUV 微影曝光设备供应以及未来中长期业务广泛讨论。

三星需确保 EUV 微影曝光设备稳定供应，才能超越台积电，成为全球晶圆代工龙头。目前 EUV 设备被 ASML 垄断，年产量有限，三星想取得比 ASML 最大客户台积电更多设备并非易事。

2000 年代以来，三星一直与ASML 合作半导体制程技术和设备开发。2012 年三星投资ASML 股权，加强与 ASML 的关系。2016 年 11 月 ASML 高层拜访三星，说明下一代 EUV 微影曝光技术发展，并就中长期投资计划发表意见。

李在镕出访荷兰期间，14 日也会见荷兰首相。三星表示，双方讨论加强半导体代工能力和解决全球半导体供应链合作。三星强调，李在镕请求荷兰首相支持，确保 ASML 的 EUV 微影曝光设备稳定供应。