溅射靶材企业汇总

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来源今日半导体

靶材是半导体、显示面板、光伏等领域制备功能薄膜的核心原材料，存在工艺不可替代性。

由于是在溅射过程中被高速金属等离子体流轰击的目标材料，又称“溅射靶材”，纯度为99.95%以上，更换不同靶材可得到不同的膜系，实现导电或阻挡等功能。

不同应用的靶材品种性能要求各有侧重，重视高附加值的原料制备。

整体而言，靶材的纯度、致密度和成分均匀性、晶粒等对靶材性能都有一定影响，且针对不同的下游影响程度和侧重点有所不同。

溅射工艺原理图：

资料来源：江丰电子招股书

从需求结构来看，显示用靶材占比最大、国内京东方和TCL等厂家份额有望超60%；半导体用靶材市场规模在两百亿元量级，技术要求最高，中国大陆及台湾市场占据半壁江山。

记录媒体（机械硬盘HDD为主）用靶材份额仅次于显示领域，HDD相对固态硬盘在服务器、数据中心等领域优势无可替代，但市场主要以海外为主光伏领域，当前薄膜电池以美国为主，HJT电池由于效率优势随着成本下降发展可期。

据中国产业信息网，靶材行业市场空间有望从当前200亿元水平增至2023年300亿元，3年CAGR9.7%较高增长。

靶材制造产业链

靶材制造产业链中主要环节为“金属提纯-靶材制造-溅射镀膜-终端应用”四个环节，各环节附加值的差异也遵从微笑曲线分布。

其中溅射镀膜是整个产业链中技术要求最高的环节，溅射薄膜的品质对下游产品的质量具有重要的影响。

资料来源：万联证券

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