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来源:CTIMES发布时间:2022-05-26779浏览
询问 AI德州仪器(TI)副总裁暨台湾、韩国与南亚总裁李原荣,今(26)日于2022 COMPUTEX Taipei论坛中表示,TI将协助客户充分发挥氮化镓(GaN)技术的潜力,以实现更高的功率密度和效率。
http://img.icspec.com/article/9e73f960-dceb-11ec-8c95-b8ca3a6cb5c4.jpg李原荣今日以「资料中心正在扩建 – 以氮化镓技术实现更高效率」为题,分享设计工程师如何利用TI 氮化镓技术为资料中心达成体积更小、更高功率密度的解决方案。
李原荣表示,随着各产业领导者期盼透过资料中心实现技术创新,从而也提高了运算能力的需求,TI希望协助客户充分发挥氮化镓技术的潜力,以实现更高的功率密度和效率。
他也强调,一直以来,TI始终致力于支援台湾和全球客户在不同应用领域里迅速发展。
李原荣补充,TI 的自有产能和长期投资,能够快速扩展氮化镓等各项技术,以协助客户透过实现更小的系统来满足不断增长的市场需求,进而以更高的效率处理更多数据。
而面对扩建资料中心的有限空间和伺服器持续运行所需的大量电力,企业必须不断提高资料中心的用电效率及功率密度。
TI的GaN FET如LMG3525R030整合快速切换驱动器,以及内部保护与温度感测功能,可在有限的电路板空间中具有更高效能表现,实现业界领先的功率密度(100W/in3)。而 TI 的C2000即时微控制器提供复杂并具时效性的处理能力、精确控制、软体和周边产品可扩充性等,透过支援不同电源设计与高切换频率的特性,能充分发挥GaN型电源解决方案潜能,从而最大限度地提高电源效率。
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