ASML与蔡司，近40年“神仙友谊”常在

“芯片制造”无疑是工业4.0时代最火的“MVP（最有价值选手）”。

而其中关键性的半导体光刻技术，在蔡司拥有悠久的历史，最早甚至可追溯到20世纪60年代末。

被很多半导体人所津津乐道的，当然还有蔡司与世界公认的“光刻巨擘”ASML（阿斯麦）之间，近40年的“神仙友谊”。

总部位于荷兰艾恩德霍芬（Veldhoven）的ASML，是全球最大半导体设备制造商之一。有评论说：ASML的“技术基石”，是“电动晶圆台、出色的对准技术和蔡司的镜头”。

“两家公司，一项业务”（Two companies, one business）——这项著名的合作原则，标示着ASML与蔡司就像是一对并联发光的双子星，向着共同的目标不断发力。

1983年，蔡司第一次为飞利浦实验室生产用于光刻机的光学部件；这也是蔡司与ASML至今已延续了近40年友谊的正式起点。

▲ASML光刻机中的蔡司光学模组

从2007年1月11日蔡司向ASML交付首台用于深紫外（DUV）光刻机的Starlith 19xyi透镜开始，到2020年10月11日，蔡司完成了第1000台——对于一款如此高度复杂的产品而言，这是一个重要的里程碑。

其实蔡司早已在光学领域探索多年：1847就已开始生产具有双合透镜和三合透镜的简单显微镜，1857年卖出了蔡司第一台复合显微镜。是光学领域当仁不让的“先行者”。

蔡司在显微镜技术方面的不断完善，也为高质量芯片的产出保驾护航：

1985年，蔡司发布第一台全数字化扫描电子显微镜，DSM 950。在扫描电镜的技术革新上，蔡司从未停下脚步，全新的场发射扫描电镜系列（点击查看）在不同领域的微观表征分析中发挥着重要作用。

2013年，蔡司收购Xradia，成为目前唯一可为客户提供光镜、电镜、X射线显微镜（点击查看）全套方案的制造商，可胜任大样品高分辨率成像、半导体封装的三维无损失效分析解决方案。

2014年，蔡司发布多束扫描电镜（点击查看），这是世界上最快的扫描电子显微镜，最多可达91束平行电子束，可实现大面积样品的快速成像，为芯片大面积拍摄提供全新解决方案。以3nm像素大小对1平方厘米面积的样品扫描成像，仅需要3小时即可完成，这是普通扫描电镜数天的工作量。

2019年，激光双束电镜（点击查看）发布，它提高了多尺度样品加工和分析的效率，如深埋结构的大面积截面加工和成像。蔡司飞秒激光对样品的切削加工速率是常规FIB的5000倍以上，能大大提高多尺度样品加工和分析的效率，如深埋结构的大面积截面加工和成像。

总在去往那些最前沿的地带、寻找最新鲜的思路，即将迎来175岁生日的蔡司，是所走过每一个时代里的“年轻人”。

现在，当芯片制造成为决定人类未来科技走向的关键词之一，人们的生活即将因此日新月异时，蔡司也在不遗余力地求新求变；在半导体制造行业近几十年的飞速发展中，蔡司从未缺席。

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