中国院士吴汉明曾在去年的科技大会上表示，EUV光刻机是全人类智慧的结晶，仅凭一国之力，很难造出来。确实，作为制造高端芯片最核心的设备，EUV光刻机所需的元器件高达10万件，来自世界上35个国家的5000多家企业。
ASML公司EUV光刻机总工程师曾当着中国科研人员的面表示：中国即便是拿到EUV光刻机图纸，也造不出来！随着中美科技竞争的不断升温，华为等中企不断遭到技术封锁，独自研制出EUV光刻机势在必行。
2020年9月，中科院院长白春礼正式对外宣布，中科院已集中优势科研力量，成立了EUV光刻机等科研小组，势要打破技术垄断，为中企的发展保驾护航！
近两年来，在中国科学家的努力下，光刻机技术壁垒不断被攻克，用不了多久，就能完成EUV光刻机的研发工作，对此，ASML公司CEO彼得·温宁克在去年向美发出警告：如果不将光刻机卖给中国，五年之内，中国就会掌握所有的EUV光刻技术，十五年之后，ASML公司很有可能失去中国市场，甚至有可能失去行业话语权！
然而，让所有人没想到的是，美国科学院院士达利文在接受媒体采访时表示：ASML公司的好日子马上要结束了！
达利文院士之所以会发出这样的感慨，编者认为主要有以下三点：
首先，光刻机随时有可能被断“氖”
氖气是EUV光刻机制造芯片过程中必不可少的稀有气体，但世界上70％以上的氖气是由俄企加工，乌企提纯，然后供应给各大半导体企业。然而，由于老美的推波助澜，俄乌局势不断恶化，氖气供应成为了随时都有可能中断。
俄乌局势恶化后，彼得·温宁克在第一时间发出警告：要寻找新的氖气来源。
不少业内人士表示，各大半导体制造企业所储备的氖气最多可以支持半年，如果不能寻找到新的氖气来源，生产线上的光刻机就无法正常工作。简单点说，一旦断“氖”，ASML公司制造的光刻机就毫无用处。
其次，日、俄开始研发新型光刻机。
据媒体报道的信息显示，日本佳能、俄科研机构已经开始研发新型光刻机，且这种光刻机的性能要优于ASML公司制造的EUV光刻机，在相同体积的硅片上，集成的晶体管数量更多，并且不断取得了重大技术突破。
一旦中、日、俄都成功研制出属于自己的高端光刻机，ASML公司必将不会再成为白宫手中的一枚棋子，对其投入的资源必定会削减！
第三，光芯片已成为未来半导体行业的主要发展方向
近日，德国Q.ANT公司联合13家欧洲企业成立了“PhoQuant”联盟，斥巨资研发光芯片。据悉，德、荷兰官方也相继拿出了数亿欧元，扶持相关企业发展光芯片。
另外，早在几年前，华为就拿出近百亿成立了光电芯片研发中心，并且攻克了大量核心壁垒技术。
相比于传统电子芯片，光芯片利用光子进行数据传输、处理，具有运算能力更强，功耗更低等优势，是未来芯片的主要发展方向。
值得一提的是，随着芯片制程工艺的更新迭代，传统电子芯片的发展已经触摸到了摩尔定律的天花板，几年之后，传统电子芯片再难有大的突破。如果芯片制程工艺不再更新，那么，EUV光刻机就会饱和，芯片制造企业对ASML公司的依赖就会降低。
综合以上因素来看，ASML公司未来的发展前景并不是一帆风顺，但是，目前ASML公司依然是各大半导体制造企业的座上宾，其在半导体行业的地位短时间内无法被动摇。所以，“中国芯”的发展依然面临着很多挑战，我们一定不能放缓研发的步伐，要持续加大科研投入，争取用最短的时间，实现EUV光刻机的国产化。
