2021年国产半导体设备厂商中微公司营收、业绩双增长！

近日，国产半导体厂商中微公司披露2021年年度报告，报告显示，受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势，公司年度营收、利润双成长。

2021年，中微公司实现营业收入31.08亿元，同比增长36.7%；实现净利润10.11亿元，同比增长105.5%；2021年公司研发投入为7.28亿元，占收入比例为23.4%，相较去年同期增长13.8%。

具体来说，其中，刻蚀设备和MOCVD设备收入占比超80%。刻蚀设备收入为20.04亿元，较2020年增长约55.44%；MOCVD设备收入为5.03亿元，较2020年增长约1.53%

中微公司董事长尹志尧表示，公司的各类等离子体刻蚀设备和薄膜设备已有超过2300个反应腔在中国大陆、亚洲和欧洲等70多条集成电路和微器件生产线实现大规模量产。公司CCP等离子体刻蚀设备产品在国内外一线客户的逻辑和存储芯片制造生产线上，包括先进的5纳米芯片生产线和下一代的试生产线上，持续提升市场占有率，在部分关键客户市场占有率已进入前三位甚至前二位。公司ICP刻蚀设备在2021年也在客户端取得突破性进展，已通过诸多客户的工艺认证并获得重复订单。公司2021年ICP刻蚀机付运超过130腔，同比增长超过230%。