美国制裁令轮到国产设备？国内光刻机巨头昨日欢庆机台交付，今日被美列入实体清单

美国商务部工业与安全局 (BIS) 宣布将 33 家中国企业列入“未经核实” (Unverified List)清单，指称这些公司并非违反国家安全或外交政策，但有存规遵循方面的问题，因此美国出口商若要向这些企业出货，必须先取得许可证。

这 33 家公司中，国内光刻机巨头上海微电子名列其中，对国内半导体产业的震撼性相当大。

昨天，上海微电子刚好举行了国内首台 2.5D/3D 先进封装光刻机交付仪式。公司曾于 2021 年 9 月举行的新产品发布会上，宣布将推出新一代的大视场高解析度先进封装光刻机，并且已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协定。无奈今日就出现在美国的实体名单上。

上海微电子成立于 2002 年，被列为 “863重大科技攻关计划”，主要从事半导体装备制造业务，主攻光刻机设备技术，应用在晶圆制造、封装测试、平板显示、 LED  等领域。

光刻机在半导体设备领域的技术难度、复杂度等门槛最高，算一算上海微电子做光刻机技术也累积了 20 年不短的宝贵经验。不过，对比全球光刻机巨头 ASML成立于 1984 年，上海微在各方面还有非常大的差距和努力空间。

目前上海微电子的最高工艺技术水平是在 90nm 光刻机，主流产品是后端封测领域的光刻机产品。在 2020 年因为华为被制裁之后，传出挖角不少设备厂商的员工，其中上海微电子因为有太多员工跳槽到华为，上海微甚至还去跟相关部门投诉，甚至传出该起挖角事件后续还影响到上海微 28nm 前段光刻机的技术研发生产。

一台高端光刻机中，需要非常大量的高科技高精密度的零部件，最核心的是德国的蔡司镜头，其他还有日本的特殊复合材料、瑞典的工业精密机床等等。ASML  最牛的地方是掌握光刻机核心技术，但 90% 零部件都是向外采购，这当中精细的程度，就犹如 ASML 总裁讲过的一句话：“就算你拿到光刻机技术的图纸，也做不出来。”

在 ASML 一步步走向巨头的路上，不断并购或是入股的方式获取关键零部件，像是 2007 年以现金 2.7 亿美元收购 Brion，这家企业擅长计算光刻  (computational lithography)，包括在设计验证、刻线增强技术和光学矫正等领域领先。计算光刻技术的目的，是让半导体制造商模拟真实电路模型，纠正晶圆制造过程中出现的偏差。

2013 年以 25 亿美元收购雷射光源龙头厂 Cymer 对 ASML 是非常重要的一步。因为极紫外光刻机 EUV 最大的难关是光源功率，当光源强度不够，EUV 距离量产都是个梦。而但靠着并购 Cymer 获得关键光源技术，ASML 终于突破关卡量产了 250 瓦光源的 EUV 光刻机。

之后，ASML 的并购还有 2016 年买下台湾设备商电子束检测设备龙头汉微科 HMI，甚至在 2017 年入股光学镜头龙头蔡司半导体约 25% 股权。

综合业界看法，美国对中国的紧缩政策没有改变下，针对科技业的制裁手腕会不会瞄准关键的国产设备和材料，值得令人担心。尤其近期芯片紧缺逐渐变成宽松供给后，全球市场对于半导体产业是否 Party is Over!（派对结束），是否会朝熊市迈进，各方一直有很大疑虑，而今日的清单公布后，再度加剧市场的担忧度。