美光证实解散上海研发中心DRAM设计部门！约有百余名员工受到影响

1月25日，业内有消息指出，美光科技正在解散150人左右规模的上海研发中心，并挑选了40多位核心研发人员提供移民技术美国的资格。

对此，美光 (MU-US) 回应，这次人事调整仅针对该设计中心的 DRAM 设计部门，约有百余名员工受到影响。

美光发表声明，确认这次人事调整受影响的部门为美光上海设计中心的 DRAM 工程团队。

声明指出，DRAM 工程团队将撤出美光上海设计中心，但没有提到更多讯息。只说相关过渡工作预计将于 2022 年 12 月前完成。上海设计中心其他团队成员将不受此次重组影响。

此前，据集微网消息，公司提供技术移民美国资格的消息属实，部分核心员工将可以携带家属一同移民至美国，目前仍无法确定有多少员工会选择移民。

据一位前美光员工透露，美光的DRAM设计团队此前有一大波人员流失至国内的本土IC设计公司和存储大厂。

某半导体行业高管评论称，美光解散DRAM设计团队很有可能是出于防止技术外泄的考虑，虽然目前国内的DRAM企业数量相对较少，但未来几年内或有可能涌现出新的几家DRAM制造商，而且现有的DRAM企业也正求贤若渴，美光此举或是想将产品的设计和研发收拢至中国大陆以外地区。

该行业高管还指出，美光对知识产权保护的重视程度由来已久，此前美光就曾因商业机密泄露将联电告上法庭。不过在2021年11月26日，美光与联电共同宣布达成全球和解协议，将各自撤回向对方提出的诉讼，联电将向美光一次支付金额保密的和解金，双方在声明中均称，期待未来达成共同的商业合作机会。

美光在该知识产权诉讼结束时就曾强调，知识产权保护是美光赖以保持竞争力的重要基石。