ASML公布了2021年第4季及全年财报，都创历年新高且优于预期。ASML并宣布去年底及今年都接获最新一代高数值孔径（Hing-NA）极紫外光（EUV），意味ASML在导入 0.55 数值孔径High-NA EUV 光刻技术的道路上又迈出了一步。
图：下一代0.55NA EUV光刻机
High-NA EUV 是ASML最新一代光刻设备，虽然ASML未透露下单客户，但因这项设备被业界视为做为未来投入环绕闸极（GAA）技术节点关键微影设备，预料下单厂商应是台积电或三星，从台积电稍早公布资本支出高达400亿到440亿美元，且首度揭露用于2nm先进制程投资，这也意味台积电在2nm有重大突破，并下单采购High-NA EUV，投入2nm研发及试产。台积电供应链透露，台积电内部规划2nm试产部队于今年第4季正式成军，这也意味台积电在先进制程，不会让三星有任何超车的机会。不过据了解，三星也紧急抢购一台High-NA EUV，并要ASML直接拉到三星工厂内进行测试，创下ASML首创直接先出货再客户厂内测试的首例，显见二大厂在先进制程竞赛超乎想象的激烈。ASML 2021年第4季营收为50亿欧元，营收净额为18亿欧元，毛利率54.2%，新增订单金额71亿欧元；2021年全年营收达186亿欧元，营收净额59亿欧元，毛利率52.7%。
ASML也公布2022年第一季财测，预估营收净额约33亿到35亿欧元，毛利率约49%。ASML计划宣布2021年每股普通股5.5欧元的总股息 (年增率达100%)。针对柏林工厂部分建筑物火灾的影响评估，ASML表示，根据目前资料评估，柏林工厂的火灾不会对2022年的系统出货产生重大影响，因此，ASML预估该公司2022年的营收净额仍可比2021年增长约20%。ASML总裁暨执行长温彼得 (Peter Wennink) 表示，ASML第4季的营收达到50亿欧元，符合财测；由于强劲的升级与服务收入挹注，2021年的毛利率达到54.2%，优于财测。温彼得进一步指出，去年第4季的新增订单金额达到71亿欧元，其中26亿欧元来自0.33 NA和0.55 NA EUV系统订单。他说，对ASML来说，2021年是强劲成长的一年。2021年ASML总营收达186亿欧元，其中的63亿欧元来自于42台EUV系统。展望2022年，温彼得指出，客户对ASML的系统出货需求高于我们的生产能力。终端市场的强劲需求为ASML客户带来量产更多晶圆的压力。为了支持客户，ASML提供客户在既有机台上的高生产力升级方案，另一方面也正在努力优化工厂的生产周期、增加机台出货量。其中一种缩短生产周期的方法是略过在工厂进行测试项目，加速出货流程，直接在客户端进行最终测试和正式验收。尽管这些出货量的营收认列将被推迟到客户正式接受之前，但确实为我们的客户争取更早获得晶圆产能的机会。ASML预期2022年第一季的营收约落在33亿欧元到35亿欧元间，毛利率约49%，研发成本约7.6亿欧元，管销费用约2.1亿欧元。温彼得表示：「调降第一季财测的主因是: 大量的快速出货导致约20亿欧元的收入将推迟至后续季度认列。同时，目前预期有6台EUV的系统认列将递延迟至2023年。尽管如此，综观2022年，公司预计全年营收成长仍将达到20%。
单价超19亿，Intel全球首个下单订购ASML最先进EUV光刻机
1月19日最新消息，Intel宣布第一个下单订购了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻机。TWINSCAN EXE:5200是ASML的高数值孔径EUV光刻机，其吞吐量超每小时220片晶圆（wph）。从路线图来看，EXE:5200预计最快2024年底投入使用，2025年开始大规模应用于先进芯片的生产。事实上，4年前，ASML的第一代高NA（0.55 NA）光刻机EXE:5000，Intel就是第一个下单的公司。不过当前的7nm、5nm芯片还并非是其生产，而是0.33NA EUV光刻机。
和0.33NA光刻机相比，0.55NA的分辨率从13nm升级到8nm，可以更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，突破0.33NA单次构图32nm到30nm间距的极限。外界预计，第一代高NA光刻机EXE:5000会率先用于3nm节点，至于EXE:5200，按照Intel的制程路线图，2025年至少是20A或者18A，也就是5nm和5nm+。此前，ASML发言人曾对媒体透露，更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺，将极度依赖高NA EUV光刻机。最后不得不说，Intel能抢到第一单，除了和ASML一致紧密合作外，当然也是因为“钞能力”，Gartner分析师Alan Priestley称，0.55NA下一代EUV光刻机单价将翻番到3亿美元（约合19亿元人民币）。
