国产28nm光刻机于明年交付，大幅缩短与国外的差距

据媒体报道指出上海微电子将在明年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机,这代表着国产光刻机最先进的技术水平,国产光刻机在大幅缩短与海外的技术差距。

由于华为的遭遇,国人对于芯片制造产业高度关注,要摆脱对国外技术的依赖就需要研发自己的芯片制造产业链,而光刻机无疑是其中的关键设备。

此前国内的芯片制造厂几乎全数进口外国光刻机,但是从华为遭遇这次事件之后,国产芯片制造产业链迅速聚集力量,培育起国产芯片制造产业链,借此真正实现独立自主。

由于国内对芯片制造产业链的重视不足,据悉在2019年之前国产光刻机的最先进工艺水平在90nm左右,由于国产光刻机的技术较为落后,国产芯片制造厂不愿采用,国产光刻机企业也就没有资金进行研发,导致国产光刻机的技术水平与外国的差距越来越大。

从去年起,国内的光刻机产业链获得了巨大的支持,光刻机的研发进入快速发展阶段,北京、上海、武汉等地的光刻机企业和相关研发机构纷纷表示加大研发力度。

上海微电子似乎已成为其中的领先者,它将率先向芯片制造企业交付28nm的光刻机,在两年时间内就研发出先进的技术并将之变成可以使用的设备,这显示出它的技术研发能力与生产结合得相当好。

其实在上海微电子之前,也有其他研发机构表示它们已研发出更先进的光刻机技术,然而光有技术而不能将之变成实际的设备,对国内的芯片制造产业支持较为有限,而在技术到产品之间还需要考虑许多的因素和时间。

光刻机的生产除了生产厂商自己对核心技术的研发之外,也需要配套企业进行相关的技术研发,这是一整条产业链共同努力的成果,毕竟此前国内的光刻机产业链的技术相比海外落后太多,这也凸显出光刻机设备生产厂家与研发机构的巨大差异。

上海微电子用两年多时时间研发出28nm光刻机已属于一个巨大的技术进步,对此我们应该敬佩上海微电子为国内芯片制造产业链作出的贡献,同时也应该由此清醒看到国内光刻机技术与海外的差距,需要脚踏实地加快追赶速度,但又应该考虑到国内产业链的现实。

或许也是看到中国光刻机产业链的迅速进步,近期全球光刻机行业领导者ASML表示将大规模向中国芯片制造企业供应DUV光刻机,这似乎颇为巧合。

海外技术先进企业的如此做法其实在液晶面板产业也曾出现过,在21世纪初期,日韩企业一直都表示有意在中国投资建设先进的液晶面板生产线,然而迟迟不见行动,到了2009年京东方和华星光电宣布筹建与当时海外先进技术水平相当的8．5代线,夏普、三星等纷纷在中国建设先进的液晶面板生产线,这证明了只有我们解决有无问题,国外企业才会真正重视。