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来源:semi发布时间:2018-10-1276浏览
询问 AI
等离子工艺设备厂商Surface Technology Systems plc (STS)日前宣布公司将一台Pegasus深反应离子刻蚀(DRIE)设备出售给了乔治亚理工学院(Georgia Institute of Technology)。后者是第一家订购此最新一代STS先进硅刻蚀(ASE®)系统的美国高校。这台设备预计将在2008年秋天最终将安装在该校新落成的纳米技术研究中心大楼(Nanotechnology Research Center Building)。乔治亚理工学院集成MEMS实验室主管、助理教授Farrokh Ayazi负责该设备的采购。他的研究团队拥有数台STS刻蚀和沉积设备,包括一台自2002年起用于MEMS和纳米技术研究的标准款ASE系统。
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