张忠谋：未来20年整体半导体产值年成长率将达到5%-6%

国际半导体展(SEMICON TAIWAN)今(5)日登场，台积电(2330)创办人张忠谋在IC 60大师论坛中发表“从半导体业重要创新看半导体公司的盛衰”演说中指出，预估未来10到20年，半导体产业成长幅度会比全球GDP成长率高出200到300基点，整体半导体业产值年成长率将达到5%-6%;虽然各项技术仍会面临盛衰，但未来创新的空间还是很大。

张忠谋并指出，未来半导体业的创新技术，包含2.5D与3D IC封装技术、极紫外光(EUV)微影制程技术、人工智慧(AI)、机器学习芯片(GPU、TPU)、芯片架构、C-tube和石墨烯等新材料等，且其中某些技术或许在IC 70周年时可以见到。

张忠谋也回顾了过去半导体产业发展，他指出，业界共有十大重要创新，造福了企业与社会。第一项创新是1948年贝尔实验室发表电晶体，让许多半导体公司受惠，早年成功的公司有德仪(TI)和快捷半导体(Fairchild);第二个重要创新是德仪1954年发明矽电晶体，仅有德仪得利;第三个创新为德仪的基尔比(Kilby)在1958年发明集成电路，得利者为德仪与快捷。

他进一步指出，第四个创新是摩尔定律，其最大意义是成为全世界半导体公司的监督者;而第五个创新是MOS技术，此技术的出现让摩尔定律得以延续;第六个创新为存储器，MOS技术和存储器的创新让日本公司、英特尔和三星得利，但德仪则因投资不足而没落;第七个创新为封装与测试委外;第八个创新是英特尔于1970年发明微处理器，让英特尔脱颖而出。

张忠谋并表示，第九个创新则为超大型集成电路(VLSI)系统设计与矽智财(IP)及设计工具，让设计和制造制程得以分开，并由IC设计厂得利;而第十个创新就是他在1985年提出的晶圆代工营运模式，台积电为得利者，客户端IC设计公司则是更大的得利者，甚至整个社会都因此得利。