住友化学扩大先进光刻胶生产！

8月31日，住友化学官网消息，住友化学宣布决定扩大其用于先进半导体工艺的光刻胶生产能力。其将在大阪工厂（日本大阪河野谷）扩建浸入式ArF和EUV光刻胶生产线，同时，还计划在其全资子公司韩国东宇精细化学株式会社益山厂建立一座新的ArF浸没光刻用光刻胶生产工厂。

全球能够生产光刻胶的企业比较少，主要由美国Shipley（已被陶氏收购）、Futurrex；德国Microresist Technology、Allresist；日本东京应化、JSR、信越化学、住友化学；瑞士GES；韩国东进化学、东有精细化学；台湾长春集团、亚洲化学等，这些企业占据全球超过95%的市场份额。

*高密度集成光刻胶包括先进封装用光刻胶、MEMS制造用光刻胶等

*EUV光刻胶属于其他一类

由上图可见，目前EUV光刻胶所占的份额还小。光刻胶市场主要还集中在g/i线、KrF、ArF光刻胶上。TECHCET数据显示，2020年全球EUV光刻胶市场预计将超过1000万美元，并且未来3年内增速将超过50%。

目前EUV光刻胶的市场几乎日本TOK、信越化学、JSR所占据。但不少其他光刻胶企业也在虎视眈眈。

2020年初，日经消息称，杜邦将扩建位于韩国中部天安市的现有工厂，生产EUV光刻胶。计划首先投入2800万美元，确立量产技术，最早于2021年启动量产投资。

2020年10月据日经亚洲评论报道，FUJIFILM和住友化学最早将于2021年开始供应下一代芯片制造的光刻胶。其中FUJIFILM将投资45亿日元用于日本静冈县的生产设备，该厂最早将于明年开始量产；住友化学计划在2022财年之前，为大阪的一家工厂投入从研发到生产的全部光刻胶产能。

2020年10月，据日经报道，日本信越化学将斥资约2.85亿美元在日本和中国台湾地区兴建工厂，其中台湾工厂预计于2021年2月开始量产，可生产与EUV光刻技术兼容的光刻胶。