前中芯国际CEO邱慈云再辟新战场！出任广州新锐光掩模科技董事长

近期，前中芯国际 CEO 邱慈云除了硅产业集团旗下的上海新昇既有职务，更多了一个新头衔，出任广州新锐光掩模科技董事长一职，这也是硅产业集团的投资项目之一，象征国产光掩模项目正式启动。

根据业界指出，广州新锐光掩模项目会是国内除了济南泉芯之外的最主要光掩模大厂，也会是粤港澳大湾区的首家、目前唯一的光掩模供应商，包括大基金、广东省半导体产业基金都有参与该项目投资。

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济南泉芯在成立之初并不是要做光掩模，而是锁定要朝 12nm 高端工艺技术切入，但之后泉芯在高端技术开发走不下去，就把旗下的光掩模部门和厂房独立成另一家光掩模厂来独立运营。
除了邱慈云，原本在中芯国际光掩模部门的郭贵琦也加入广州新锐。
邱慈云有超过27年的半导体产业经验。毕业于美国加州伯克利电子工程和计算机科学专业的邱慈云，早年曾在德国慕尼黑固体技术研究所从事科研工作，后加入美国新泽西默里山AT&T贝尔实验室，并成为其高速电子研发部门的负责人。随后，他加入台积电，并担任工厂高级总监。
2001年，邱慈云曾追随中芯国际创始人张汝京建立中芯国际，担任该公司高级运营副总裁，一度被视为张汝京身旁最重要的副手。不过，由于在公司运营管理等问题上与张有不同意见，2005年，邱离开中芯国际。
离开中芯后，邱慈云在时任华虹NEC总裁王宁国（即中芯国际前任CEO，在控制权风波中被解职）的邀请下，加盟华虹NEC担任营运副总。不过由于华虹NEC的12英寸半导体生产线建设资金迟迟不能到位，包括王宁国、邱慈云等在内的主要12英寸线运营者都离开华虹NEC。邱慈云转战马来西亚晶圆代工厂Silterra担任COO，而王宁国则加盟中芯国际担任CEO。
2009年2月，华虹NEC与宏力半导体合并一事得到推进。在此基础上，华虹NEC12英寸半导体生产线建设计划被重提，邱慈云在华虹集团原任董事长张文义（现任中芯国际董事长）的邀请下，又回到华虹NEC任职CEO。
2011年8月5日，华虹NEC现任CEO邱慈云将接替王宁国出任中芯国际首席执行官兼执行董事。
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全球光掩模（photomask）市场一年市场规模约 35 亿～40 亿美元上下。主要供应商以美日大厂为主，其中日本凸版印刷、大日本印刷、美国 Photronics 三家就占了 80% 以上的市占率，其他还有日本豪雅 HOYA、日本 SK 电子、台湾光罩等。
除了独立运营的光掩模厂，像是台积电、三星、英特尔等大型半导体厂内部也有自己的光掩模部门。
有些半导体厂的策略是高端工艺技术采用自己的光掩模技术，成熟工艺技术会委外释单给其他的光掩模厂生产。
继大硅片之后，邱慈云也再度出任同集团旗下光掩模项目，未来将有助于填补国内该技术产品的空白。

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