邱慈云再辟新战场，带领前中芯国际好手接下广州新锐光掩模董事长一职

近期，前中芯国际 CEO 邱慈云除了硅产业集团旗下的上海新昇既有职务，更多了一个新头衔，出任广州新锐光掩模科技董事长一职，这也是硅产业集团的投资项目之一，象征国产光掩模项目正式启动。

根据业界指出，广州新锐光掩模项目会是国内除了济南泉芯之外的最主要光掩模大厂，也会是粤港澳大湾区的首家、目前唯一的光掩模供应商，包括大基金、广东省半导体产业基金都有参与该项目投资。

济南泉芯在成立之初并不是要做光掩模，而是锁定要朝 12nm 高端工艺技术切入，但之后泉芯在高端技术开发走不下去，就把旗下的光掩模部门和厂房独立成另一家光掩模厂来独立运营。

除了邱慈云，原本在中芯国际光掩模部门的郭贵琦也加入广州新锐。

全球光掩模（photomask）市场一年市场规模约 35 亿～40 亿美元上下。主要供应商以美日大厂为主，其中日本凸版印刷、大日本印刷、美国 Photronics 三家就占了 80% 以上的市占率，其他还有日本豪雅 HOYA、日本 SK 电子、台湾光罩等。

除了独立运营的光掩模厂，像是台积电、三星、英特尔等大型半导体厂内部也有自己的光掩模部门。

有些半导体厂的策略是高端工艺技术采用自己的光掩模技术，成熟工艺技术会委外释单给其他的光掩模厂生产。

以台积电为例，以往光掩模多是自给自足。因此，通常在台积电下单的IC 设计公司基于确保制程、良率稳定，也都会以台积电的光掩模部门为合作对象。

不过，近几年的芯片热潮下，台积电因为接单持续满载，开始出现内部光掩模产能不足的状况。因此，台积电也开始扩大使用外部的光掩模产能，进而使得全球光掩模产能都呈现满载。

光掩膜版一般也称光罩、掩膜版，在半导体制程过程是非常关键的一环，可以想像为在半导体、液晶显示器在制造过程中，转移电路图形“底片”的高精密工具。

光掩模主要是将电脑所设计的半导体设计回路图，通过光刻制版工艺，将芯片客户所需要的微米和纳米级的精细图案制成掩模版，是电路图写在半导体晶圆之前，最先被呈现的半导体零件，这原理就好像是利用底片洗出数千张的照片，通过光掩模，也能在众多的晶圆上写出半导体回路。再者，光掩模的细致度和准确度，也直接关系着半导体芯片的品质。

继大硅片之后，邱慈云也再度出任同集团旗下光掩模项目，未来将有助于填补国内该技术产品的空白。