上海新阳光刻胶突破！

光刻胶材料作为集成电路制造领域的重要关键材料，被广泛应用于350nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。随着国内晶圆厂建设的不断增多，以及国外光刻胶巨头产能受限，供需紧张，国内对光刻胶产品的需求也将快速增长。

此次上海新阳光刻胶产品取得首笔订单订单可谓是意义重大。上海新阳表示，本次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF（248nm）厚膜光刻胶产品的开发和产业化” 取得了成功，为上海新阳在光刻技术领域目标的全面完成奠定了坚实基础。

资料显示，上海新阳是国内知名的半导体材料厂商，形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术，其开发研制出的140多种电子电镀与电子清洗系列功能性化学材料，产品被广泛应用于集成电路制造、3D-IC先进封装、IC传统封测等领域。

据悉，光刻技术是上海新阳正在加快开发的第三大核心技术，并且已经取得了重大突破。

此前的年报显示，上海新阳集成电路制造用ArF干法、KrF厚膜胶、I线等高端光刻胶验证工作正在稳步推进，部分光刻胶产品已取得优异的线外测试数据。

年报披露，上海新阳采购的用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机，用于ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机，以及用于ArF浸没式光刻胶研发的ASML XT 1900 Gi型光刻机已全部到厂。

上海新阳指出，光刻机设备的陆续到位，有助于加速推动公司在光刻技术的全产业链布局及开拓；同时公司加大在晶圆及先进封装湿制程设备领域的投资布局。