半导体下世代 聚焦EUV微影

虽然摩尔定律推进速度出现放缓现象，但是苹果自行制程的ARM架构应用处理器，仍然希望延续摩尔定律的速度持续进行制程微缩，如A10应用处理器已经採用台积电16奈米并开始放量投片，据传明年A11应用处理器将採用10奈米制程生產，2018年A12处理器则规画转进7奈米世代。

只是10/7奈米採用的浸润式(immersion)多重曝光(multi-patterning)微影制程的成本太高，与16奈米相较就大增将近1～1.5倍。因此，为了有效降低晶片的生產成本，包括英特尔、台积电、三星等三大半导体厂均积极为摩尔定律续命，除了希望争取苹果新一代处理器代工订单，也不约而同赌上极紫外光(EUV)微影技术。

包括英特尔、台积电、三星等三大厂近期陆续召开法说会，会中均提及在EUV技术上的布局计画。以英特尔来说，虽然10奈米制程在今年底前进入量產后，可能要到2019年之后才会进入7奈米或5奈米世代，但英特尔大手笔包下艾司摩尔(ASML)的新一代EUV机台，就是希望可以抢在7奈米开始以EUV量產投片，一来可有效减少光罩曝光层数以降低晶片生產成本，二来则可将產品生命周期重新调整回摩尔定律轨道上。

台积电及三星今年主要目标是加快10奈米制程在年底开始小量投片，明年上半年可进入量產阶段。至于明年开始进行的7奈米制程微缩，虽然主流微影技术仍是以浸润式多重曝光制程为主，但是台积电及三星均透露，会在7奈米世代开始採用EUV来进行1～2层光罩曝光。

只不过，以目前EUV机台的每日晶圆曝光量来看，ASML希望第四代NXE:3350B设备今年可达每天1,500片生產能力，但仍然未达到台积电及三星的量產需求。由此来看，台积电及三星要真正大量导入EUV技术，可能要等到5奈米之后，最可能实现的时间点将落在2020年。

三大半导体厂积极採用EUV微影技术，希望先进制程微缩可以重返摩尔定律，最终目的仍是想要争取苹果新一代应用处理器的代工大单。英特尔已宣布策略转型计画，除了维持本身处理器產品的世代交替，当然也想争取其他的晶圆代工机会。

至于三星及台积电目前的10/7奈米制程军备竞赛，目标明确就是苹果明年A11处理器及后年A12处理器的代工大单，而且A12处理器很有可能会首先在部分光罩制程採用EUV技术。