空气传播分子污染物(AMC)检测

随着集成电路工业以及半导体行业技术越来越快的发展，在生产过程中不仅对设备的要求越来越精密、可靠，而且对工艺制造环境的要求也是越来越严格。

而洁净室就是一个为环境敏感物质与产品打造的工艺制造环境,主要用于提高成品率与产量。经过几十年的发展，洁净室中最早被认识并加以控制的空气颗粒过滤技术已是一门“成熟”的科学技术，并能够灵活的被应用在每个微小环境中。而一些微小的化学挥发性气体往往会被忽略，但实际它们对很多加工处理过程有害，特别是在集成电路工业。因此为了能够提供一个“更洁净”的生产环境,近年来空气传播分子污染物AMC也逐渐被认识并加以重视。

洁净室环境中的空气分子污染物AMC，内部来自建筑材料释出、设备和材料释出、腐蚀和光刻等工艺过程中化学药品逸散、人员产生、管路泄露、设备维护修理时散发等，外部来自环境空气中存在的气相污染物，以及洁净室的废气排放重新送回洁净室。

空气分子污染物 (AMC) 对于高科技生产过程是关键性因素，特别是微电子行业，有机污染物是生产过程中的消极因素，会导致高科技公司因产品质量问题而产生的成本增加。

那么，什么是AMC呢？AMC是指空气传播分子污染，也简称“分子污染”，它包括了洁净室空气中出现的一系列污染物，具有以气体、蒸汽及空气浮尘状态出现；化学特性可以为有机的或者无机；包括酸、碱、聚合物添加剂、有机金属化合物、凝缩剂与添加剂等特征。

一、AMC按照其大小来区分的三种状态

1、固态(微粒状的)：即直径在0.003到100微米，如灰尘、烟雾等；

2、液态(和蒸汽)：大概在1到9微米，如蒸汽、烟雾浮尘等；

3、气态：约在0.0003到0.007微米，如二氧化硫(SO2 )、二氧化氮(NO2)、臭氧(O3)、甲醛(HCHO)、硫化氢(H2S)、 二氧化碳(CO2 )等。

二、 AMC对半导体工业的影响

1、 AMC描述了广泛的化学品类型，这些化学品往往导致大量潜在的工艺流程问题。

2、 AMC几乎对亚微米器件生产的任何方面都产生影响，基本贯穿整个生产流程和器件的最终性能。

3、半导体制造工艺所实现的300mm晶片、铜互连以及器材集合尺寸低于0.01微米的变化，正在加快相应制造环境向无分子污染( AMC)的方向转变。

4、AMC控制正成为所有新型半导体制造设备设计要求中所必须的要点之一。

5、MC空气分子污染物超标会引起一系列严重后果，比如晶圆废弃、停产、重新净化洁净室等。

三、洁净室内AMC潜在的污染源

1、补给风(即从外来引入的新风)

2、环流气体(洁净室内部产生)

洁净室内部AMC污染物来源包括:操作助剂、溶剂、制造设备、意外溢出和化学发射。

无空气分子污染物生产是理想的生产目标，通过污染物源头控制、传播控制，实时监控污染物浓度并结合多级过滤器以及新风系统来实现，持久监测AMC浓度，有助于掌握污染物源头、稳定生产、预防过滤器突发性寿命减少等。

四、AMC检测范围

主要测量痕量级ma酸性污染物（F、Cl、NO3、NO2、SO4）、mb碱性污染物（NH4)等。