Rolith展示了ITO替代材料透明金属网格电极的出色性能

    加州普莱桑顿, 2013年8月12日 - 亚太商讯 - Rolith公司是高级纳米设备开发的领导者，日前宣布成功展示了采用破坏性毫微光刻方法（滚动掩模光刻 – RML(TM)）的金属网格电极技术。

    我们看到用于消费电子市场的触摸显示屏出现了爆炸性增长。到目前为止，ITO（铟钛氧化物）材料是用于透明电极的标准解决方案。除了成本过高和材料供应有限之外，它还存在其他问题：这种材料的高反射率降低了对比率、光学性质极快降级至50 Ω/☐以下，从而限制了使用ITO生产而不使性能降级的显示屏大小。

    ITO的唯一可行替代材料（和大型触摸显示屏的唯一解决方案）是金属线网格。对金属线网格的要求是人眼无法看到，这意味着线宽要小于2微米。此外，窄线有助于应对摩尔效应，金属线网格的叠加和显示屏的像素结构会造成这一效应。

    Rolith公司采用了名为滚动掩模光刻 (RML(TM)) 的专利毫微光刻技术，以制造用于大型基材的透明金属线网格电极。RML基于近场连续光学光刻，使用圆柱相掩模进行操作。

    玻璃基材上的透明金属电极以亚微米宽纳米线的形式制造，以数十微米的间隔光刻到规则的2维网格图案，厚度为几百毫微米。经过检测，人眼无法看到此类金属结构，极为透明（超过94%的传递），雾度极低 (~2%)，同时电阻率低 (<14 Ohm/☐)。这组参数使得Rolith技术领先于ITO替代技术的所有主要竞争技术。

    第2代RML工具能够制造最多1 m长的基材。今年早些时候制造的工具已被用于展示这一技术。