国产光刻胶有新突破了？二大厂商宣布量产时间，可用于7nm芯片

在2019年7月份的时候，日本对韩国半导体进行了打压，对包括光刻胶在内的三种半导体材料对韩国出口进行了限制，一时之间让韩国产导体产业紧张不已。

光刻胶是用来干什么的？为何一禁韩国就紧张了？光刻胶是芯片制造过程中必不可少的一种材料，硅晶圆光刻前，都要涂上光刻胶，没有光刻胶就无法光刻，从而无法实现芯片的生产。

目前市场上的光刻胶，主要被日本、美国企业垄断，这两国的企业占了全球85%的份额，而日本一家占了70%的份额，可以说全球的芯片制造企业的脖子，都被日美卡着的。

而从光刻胶的分类来看，主要有g线、i线、KrF、ArF等，前两种是最常见的，最低端光刻胶。而KrF、ArF等则是比较高端，且光刻分辨率较高的光刻胶，基本被美日垄断。

所以如果日本不出口到韩国，韩国自然心慌了。当然如果日本不出口到中国来，中国也一样心慌，中国的光刻胶自给率不到20%，还主要集中在g线、i线，高端的KrF非常非常少，自给率可能在5%左右，而ArF甚至无法量产。

而高分辨率的光刻胶是半导体化学品中技术壁垒最高的材料，有业内人士甚至曾说，日美企业技术领先国内企业二十年至三十年。

但近日，在光刻胶领域，却传出好消息了，那就是上海新阳发布公告称，买了一台ASML-1400的光刻机，目前已经入场，这台光刻机用于193nmArF干法光刻胶产品的生产。

而据上海新阳的说法，193nm的ArF光刻胶可在2022年实现少量销售，2023年开始量产。

而193nm的ArF干法光刻胶经过多次曝光可以用于第一代的7nm制程（不是EUV工艺），可见这真的是一个好消息。

其实不只是上海新阳，另外一家国产半导体材料企业苏州晶瑞于去年也发布了公告，称在ASML那买到了一台XT1900Gi型ArF浸入式光刻机，也是用于ArF光刻机的生产，预计在2022年也将量产ArF光刻胶。

可见，如果进展顺利，那么国产光刻胶在2022年就实现重大突破，再也不用担心被卡脖子了，毕竟ArF光刻胶是可以用于7nm（非EUV）芯片的生产的。

接下来就看这两家厂商的研发、试产、量产进程是否顺利了，同时也希望国内涌现出更多的这样的厂商出来，中国芯才能真正的稳步向前。