光刻技术突破后，中国科技巨头传来新消息，中国芯片“提速了”

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01光刻技术的突破

光刻机是制造芯片的必须设备，如果没有光刻机的话，一颗芯片的可能生产不出来。可是全球光刻机制造领域一直都是国外企业说了算，日本的尼康，佳能和荷兰的ASML，虽然我国也有上海微电子，但是仍需努力前行。

想要突破高端国产光刻机不是一朝一夕的事，必须持之以恒。将每一项核心技术逐一突破，好消息是，在光刻机的光源技术问题上，清华大学有了突破。

此前清华大学报告了一种“稳态微聚束”光源的首个原理验证实验，稳态微聚束全称为“Steady-statemicrobunching，SSMB”，这类光源具备高功率，高重频和窄带宽的特性，波长最高可覆盖EUV极紫外光波段，也就是波长为13.5nm光源。

这点是和荷兰ASML公司所生产的EUV光源是相近的，换言之，通过SSMB突破的EUV光源可以用于未来国产高端光刻机上，解决相应卡脖子的问题。

光刻技术的突破意义十分重大，虽然还需要整个产业链的协同进步，达到统一水准，才能完成自主高端光刻机的生产。但相信这一点迟早会到来。

不过就在光刻技术突破后，中国科技巨头传来新消息，同样事关光刻机。

02中国科技巨头再传新消息

3月8日，中国科技巨头上海新阳发布公告称，经过多方积极协商，成功购得ASML-1400光刻机并且完成交付。目前已经进入到合作场地，等待安装和调试，后续就能用于先进光刻胶验证。

此次上海新阳完成交付的光刻机十分关键，对半导体材料的光刻胶研究验证有重要作用，可加快193nmArF干法光刻胶产品的研发。

光刻胶作为芯片制造不可或缺的材料，可保护晶圆不受损，通过将其涂抹在晶圆上，进行曝光处理进一步将掩膜版的图新转移到基片上。从而确保后续工艺环节的进行，而光刻胶的品质也会直接影响到芯片制造良率。

上海新阳是国内半导体材料的佼佼者，也是继晶瑞股份之后，又一光刻机交付完成的中国巨头。不久之前中芯国际才宣布与ASML签订了12亿美元的订购协议，没想到这一次上海新阳就传来了ASML光刻机完成交付的好消息。

这对国产半导体产业链的发展是有促进作用的，相信有了此次到货的光刻机，再加上晶瑞股份，中芯国际等巨头进购光刻机的落地，投入生产线，一定会让中国芯片不断提速。

03不断提速的中国芯片

全球芯片市场迎来洗牌，一众半导体巨头都在加快自主研发的进度，包括欧美国家也开始重视芯片制造业的经济提升。同样的，中国芯片也“提速”了。

不断提速的中国芯片已经在光刻机设备、人才培养、企业扶持、应用技术的攻克和资源调度等方面全力出手。在全球芯片紧缺的情况下，国产半导体积极运作，前有中科院机布局光刻机，后有清华大学突破光源技术。

另外中国芯片制造巨头中芯国际不但获得了供应商的许可，而且还进购了12亿美元的光刻机，只待到货投入生产。现如今上海新阳为了全力研发光刻胶产品，安排购买的光刻机也完成了交付。

一系列的好消息接踵而至，中国芯片正不断提速，期待有朝一日也能传来自主高端技术全面突破的喜讯。

04总结

全球对芯片制造产业的重视非常高，光刻机、光刻胶、双工件台、曝光系统等等都是芯片制造产业链的重要组成部分。这是需要全产业链一起努力，仅凭某些企业的突破还远远不够。

因此需要越来越多的半导体巨头参与进来，协同突破，实现整个国产半导体产业链的进步。只有这样，才不必站在别人的屋檐下，从此昂首挺胸，展望未来。

对上海新阳光刻机到货你有什么看法呢？

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