中芯国际12亿美元采购ASML的光刻机，真的能够解决芯片问题？

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在梁孟松的网络传辞职信中有这样的一段话。

指出：5nm和3nm的最关键、也是最艰钜的8大项技术也已经有序展开，只待EUV光刻机的到来，就可以进入全面开发阶段。

我们要注意这段话，虽然说中芯国际它确实在7纳米工艺的技术开发上似乎已经完成，并且在2021年4月份就可以进入风险量产。但是5纳米和3纳米最关键的部分，似乎必须要等到光刻机的到来，才能够全面的开发。注意这里是指全面的开发阶段。

而在中芯国际3月3日公告：与荷兰光刻机巨头阿斯麦集团（ASML）签订一份高达12亿美元的订单。并且，ASML也证实：中芯国际采购了深紫外线光刻机（即DUV光刻机）。

但是我们必须要注意到。所购买的是DUV光刻机，也就是深紫外光刻机，它的波长有193纳米，而EUV光刻机的光源波长为13.5纳米，这两者之间的差异，我相信应该非常明显了。因此我们不必要特别的兴奋，因为它所出售的光刻机并非是我们所期待的EUV光刻机，虽然对于中芯国际在芯片制造领域确实有帮助，但是它并不能够给中芯国际在芯片领域的开拓中带来更好的提升。

但是，我们也相信，虽然说我们受到了在各种技术方面的限制。我们在光刻机领域也确实没有更好的优势，但是我们能够解决这方面的问题，在国内很多技术人员不断的开拓进取之下，一定能够解决技术方面的束缚，带来更好的光刻机，也能够解决芯片制造中的问题。