【深度】巨头们追捧的新宠：EUV 光刻真能够拯救摩尔定律？

　　当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔 18-24 个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。戈登·摩尔所提出的摩尔定律，一直环绕着伟大而悲惨的光环：它似乎总在触碰半导体工艺的极限，却又在即将衰亡时因黑科技的拯救而重获新生。

　　如果光刻技术要数现代集成电路上的第二大难题，那么绝对没有别的因素敢称第一。目前，193nm 液浸式光刻系统是最为成熟的技术，它在精确度及成本上达到了一个近乎完美的平衡，短时间内很难被取代。不过，一种名为极紫外光刻（EUV 光刻）的技术半路杀出，成为近年来英特尔、台积电等芯片公司追捧的新宠。有人认为 EUV 光刻能够拯救摩尔定律，但事实是否真的如此？

　　EUV实地测试：在位于纽约阿尔伯尼的纽约州立大学理工学院里，这台EUV光刻机（型号ASML NXE: 3300B）被用来刻出芯片表面的容貌。从图中这台设备前方的靠底部位置，可产生用来曝光晶圆表面的EUV光。机器远端连接了一条导轨，可以给晶圆在曝光前覆上涂层，并处理曝光后的工作。

　　即使你穿了兔子套装一样的超净服并置身 Fab 8 其中，你还是很难想象它有多大。位于纽约阿尔伯尼北部山林中，价值 120 亿美元的 GlobalFoundries 制造中心，成行成列地摆放着高大的机器。如同倒挂的微型过山车一般，天花板上的轨道里，有装载晶圆的运输设备从头顶呼啸而过。如果时机凑巧，你就可以见证运输设备把晶圆装载到生产设备的过程。随之，产品就将迎来三个月的生产周期，设备会把盘子大小的裸硅晶圆加工成可用在智能手机、电脑和服务器里面的芯片。是的，如果在公历新年开始制作一个微处理器，可能要等到春天才能完成。

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