光刻机封锁失效了？芯片制造曝光“新技术”，中国芯的春天来了

不管是在5G通信领域，还是在全球智能手机市场之中，华为可以说是节节高升。5G领域之中，拿下了5G专利榜第一名，而在智能手机领域之中，超越苹果成为仅次于三星的第二大手机企业。

华为面临困境

可以说，现在的华为发展势头越来越好，发展的也越来越大。在半导体领域内的影响也是越来越大，而这威胁了美国的霸主地位。于是在这样的情况之下，美国开始对华为对国产芯片企业进行技术封锁。几次修改规则之后，华为芯片供应链被彻底切断，而国产芯片巨头中心也被列入实体清单之中。

高端芯片制造能力上的不足使我们感受到了什么是无芯之痛，信号解决高端芯片制造问题除了要打破西方国家主导的高端机光刻机的技术壁垒，还要解决光刻材料光刻胶。

那么什么是光刻胶呢？光刻胶与我们平时所用到的胶水是不一样的，对于感光性，抗湿性，粘附性，表面张力等等要求非常高。在制造过程之中，将光刻胶均匀的涂抹在镜片上，在使用光源对镜片进行照射，将电路照射到镜片至上，因为光刻胶对光源敏感，所以就形成了设计好的电路形状模具，在最后经过蚀刻清洗形成芯片。

在这个过程之中，光刻胶将会直接影响芯片的光刻精度，而更重要的是，在光刻胶领域，美国，日本，德国形成了垄断占据全球90%的市场份额。所以对于我们来说，光刻胶也是我们在高端芯片制造路上的一个绊脚石。

好消息传来

而在这样的情况之下，浙江西湖高等研究院传来了消息，曝光了能够与光刻技术相媲美的冰刻技术。冰刻技术是西湖大学副校长从2012年回国后就开始开启的一项基础科学研究计划。与光刻技术不同，冰刻是要在-140度密闭真空的环境下通过水蒸气降低计温度结成冰的特性，迅速在镜片上形成冰膜，最后用电子束在屏幕上进行刻录，形成三维电路结构，最后再进行填充，常温之下，冰糕后自动挥发。

有消息称，目前国产的并可技术已经能够在光纤末端做出复杂的微纳米冰刻，并且产能也是非常理想的。一旦这种冰刻技术真的实现，那么就意味着没过的光刻机封锁失去了意义，因为有了便可结束之后，我们不使用光刻机也能够研究出芯片来。

比起传统的光刻机并刻技术是有优势的，芯片光刻芯片制造需要光刻胶熏晕的吐沫在镜片上，所以不管是光刻胶的质量还是晶圆的质量，都能够直接影响芯片制造精度，完成之后还需要进行除胶。但冰刻技术并不需要考虑这样的问题，再加上电子数与基紫外光相比，其加工精度更高效率也更高，芯片集成度也会更高，性能自然而然也会更强。

而这种冰刻技术对于推动国产高端芯片技术的制造有着很大的作用，为了应对高端芯片垄断，让我们取得了重大的一步，而这对于陷入危机的华为来讲，很有可能会迎来转机。对于国产芯片来讲也是一个新的转机。

其实中国芯片这一路走来是比较难的，毕竟我们在半导体行业之中的起步相对来讲比较晚。想要在短时间内赶超很多其他西方发达国家几乎是不可能的，所以在这样的情况下，我们唯有不忘初心，保持我们自己的脚步，才能够在更多的领域之中，做到完美的突破。